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专利号: 2019112396604
申请人: 陕西师范大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 光学
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种基于金属‑介质‑金属的增强吸收的结构,其特征在于,所述结构包括:金属基底和嵌套部,所述嵌套部周期性地设置在所述金属基底上;

所述嵌套部包括第一金属柱、介质层和第二金属柱,且所述第一金属柱为实心结构,所述介质层和所述第二金属柱均为空心结构,所述介质层嵌套在所述第一金属柱外部,所述第二金属柱嵌套在所述介质层外部;

还包括石墨烯薄膜,所述石墨烯薄膜覆盖在所述金属基底远离所述嵌套部的一端;所述石墨烯薄膜的面积大于所述嵌套部的顶面面积;所述石墨烯薄膜四周厚、中间薄;

其中,所述第一金属柱和所述第二金属柱之间形成金属‑介质‑金属结构,入射光被限制在所述介质层内,实现强吸收。

2.根据权利要求1所述的基于金属‑介质‑金属的增强吸收的结构,其特征在于,所述金属基底的材料为金。

3.根据权利要求2所述的基于金属‑介质‑金属的增强吸收的结构,其特征在于,所述第一金属柱和所述第二金属柱的材料为金。

4.根据权利要求3所述的基于金属‑介质‑金属的增强吸收的结构,其特征在于,所述介质层的材料为二氧化硅。

5.根据权利要求1所述的基于金属‑介质‑金属的增强吸收的结构,其特征在于,所述第一金属柱、介质层和第二金属柱的形状均为长方体。

6.根据权利要求5所述的基于金属‑介质‑金属的增强吸收的结构,其特征在于,所述长方体的高度为500纳米,所述第一金属柱的边长为100纳米,所述介质层的边长为150纳米、所述第二金属柱的边长为200纳米。

7.一种基于金属‑介质‑金属的增强吸收的装置,其特征在于,所述装置包括多个权利要求1‑6任意一项所述的结构,多个结构通过金属基底固定连接。

8.一种基于金属‑介质‑金属的增强吸收的系统,其特征在于,所述系统包括:光强检测装置和权利要求7所述的增强吸收的装置,所述光强检测装置与所述增强吸收的装置连接,用于检测所述增强吸收的装置对光的吸收率。