1.一种铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化材料，其特征在于它是分子式为(C6H8N2)aBibXc的单晶，当X为Cl、Br、I中的一种或多种；当X全为Cl时，a=1，b=1，c=5；当X全为Br时，a=2，b=1，c=5；当X全为I时，a=1，b=1，c=4。

2.权利要求1所述铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化单晶材料的制备方法，其特征在于主要包括以下步骤：

(1) 向Bi2O3中滴加氢卤酸，混匀后，得到澄清溶液；所述氢卤酸为HX的水溶液，X为Cl、Br、I中的一种或多种；

(2) 将2-氨基-4-甲基吡啶加入到步骤(1)所得澄清溶液中，超声处理后，得到浑浊溶液；

(3) 将步骤(2)所得浑浊溶液在90 250 ℃条件下保温5 30 h，冷却至室温，得到分子~ ~

式为(C6H8N2)aBibXc的晶体，即为铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化材料。

3.根据权利要求2所述铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化单晶材料的制备方法，其特征在于Bi2O3与2-氨基-4-甲基吡啶的摩尔比为（1~2）：（1~5）。

4.根据权利要求2所述铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化单晶材料的制备方法，其特征在于氢卤酸的浓度在35%~48%，其滴加的用量与Bi2O3的比例关系为（1~9）mL：（1~2）mmol。

5.根据权利要求2所述铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化材料的制备方法，其特征在于氢卤酸的滴加速度为0.4 0.8 mL/s。

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6.根据权利要求2所述铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化材料的制备方法，其特征在于步骤(1) 中氢卤酸滴加完成后，搅拌时间为1 4 h，搅拌速率为1 5 rpm/s。

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7.根据权利要求2所述铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化材料的制备方法，其特征在于步骤(2) 中超声处理的功率为60 100 w，时间为3 10 min。

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8.根据权利要求2所述铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化材料的制备方法，其特征在于步骤(3) 后还包括干燥的步骤，具体是在20 40 ℃的条件下干燥20 30 h。

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9.权利要求1所述铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化材料，其特征在于所述(C6H8N2)aBibXc单晶的光学带隙在1.60 eV~3.20 eV之间，且带隙连续可调。

10.权利要求1所述铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化材料在光电领域的应用。