1.一种可控阵列式场发射X射线源装置，其特征在于，包括封装在外壳内部的场发射电子源部分、X射线源部分以及在外壳外部的测量系统；

其中，所述场发射电子源部分包括阵列式阴极、载有用于控制阵列式阴极发射电子密度和区域的IC芯片的PCB板、网状栅极；所述IC芯片置于PCB板背面，并通过数据线与计算机相连；所述PCB板正面设有若干金属凸点，所述阵列式阴极置于网状栅极的后方并通过所述金属凸点与PCB板电路相连，所述网状栅极与地线相连；

所述X射线部分包括铜靶、铍窗口、高压电源，所述铜靶和铍窗口固定在外壳上，所述铜靶与高压电源相连；

所述测量系统包括X射线探测器、放大器、示波器，所述X射线探测器设置于所述铍窗口外侧，并与放大器相连，所述放大器与示波器相连，所述示波器还连接所述计算机。

2.根据权利要求1所述的可控阵列式场发射X射线源装置，其特征在于，所述阵列式阴极为多孔结构，每个孔与所述金属凸点对应连接，金属凸点的前端部嵌入孔中。

3.根据权利要求1所述的可控阵列式场发射X射线源装置，其特征在于，所述高压电源为电压在0～50KV可控电源。