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专利号: 201980000341X
申请人: 深圳市汇顶科技股份有限公司
专利类型:其他
专利状态:已下证
专利领域: 测量;测试
更新日期:2024-08-27
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种图像深度的计算方法,其特征在于,包括:

根据结构光分别投影到目标物体表面、第一标定参考面、第二标定参考面上形成的结构化图像、第一标定图像以及第二标定图像,确定所述结构光在所述结构化图像上的目标像素分别相对于所述结构光在所述第一标定图像以及所述第二标定图像上的所述目标像素的第一视差以及第二视差;

根据所述第一视差和第二视差,计算所述目标像素在所述结构化图像上的深度,其中,所述第一标定参考面对应测量距离的上限,所述第二标定参考面对应所述测量距离的下限。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:将所述第一视差、第二视差投影到基线方向,得到第一投影视差以及第二投影视差;

对应地,根据所述第一视差、第二视差,计算所述目标像素在所述结构化图像上的深度,包括:根据第一投影视差以及第二投影视差,计算所述目标像素在所述结构化图像上的深度。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:建立第一标定图像和第二标定图像上不同条纹的第一拟合模型和第二拟合模型;

根据结构光分别投影到目标物体表面、第一标定参考面、第二标定参考面上形成的结构化图像、第一标定图像以及第二标定图像,确定所述结构光在所述结构化图像上的目标像素分别相对于所述结构光在所述第一标定图像以及所述第二标定图像上的所述目标像素的第一视差以及第二视差,包括:根据所述目标像素分别在结构化图像、第一标定图像以及第二标定图像的位置以及所述第一拟合模型和第二拟合模型,确定所述第一视差以及第二视差。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,还包括:确定第一标定图像和第二标定图像上每根条纹的中心像素以建立第一标定图像和第二标定图像上不同条纹的第一拟合模型和第二拟合模型。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,还包括:确定给所述第一标定图像和第二标定图像上每根条纹的中心像素分配的掩码标记以建立第一标定图像和第二标定图像上不同条纹的第一拟合模型和第二拟合模型。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,还包括:以所述第一标定图像和第二标定图像上每根条纹的中心像素为参考进行邻域的像素搜索以建立第一标定图像和第二标定图像上不同条纹的第一拟合模型和第二拟合模型。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,对在邻域内搜索到的像素统计分析以判断是否需要建立第一标定图像和第二标定图像上不同条纹的第一拟合模型和第二拟合模型。

8.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,还包括:根据第一拟合模型和第二拟合模型确定拟合像素,根据所述拟合像素与对应实际的像素确定拟合误差。

9.根据权利要求4-8任一项所述的方法,其特征在于,还包括:提取所述第一标定图像以及第二标定图像中的波峰值,以确定所述第一标定图像和第二标定图像上每根条纹的中心像素。

10.一种图像处理装置,其特征在于,包括,

视差单元,用于根据结构光分别投影到目标物体表面、第一标定参考面、第二标定参考面上形成的结构化图像、第一标定图像以及第二标定图像,确定所述结构光在所述结构化图像上的目标像素分别相对于所述结构光在所述第一标定图像以及所述第二标定图像上的所述目标像素的第一视差以及第二视差;

深度计算单元,用于根据所述第一视差和第二视差,计算所述目标像素在所述结构化图像上的深度,其中,所述第一标定参考面对应测量距离的上限,所述第二标定参考面对应所述测量距离的下限。

11.一种三维测量系统,其特征在于,包括:投影装置、摄像装置、以及权利要求10所述的图像处理装置,所述投影装置用于通过结构光将编码图像投影到目标物体上,所述摄像装置用于捕获所述编码图像投影到目标物体上形成的结构化图像。