1.一种含石墨烯微弧氧化耐蚀陶瓷层的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)、基体表面预处理:
用砂纸对基体表面进行打磨,处理完毕后使用无水乙醇、去离子水对基体表面进行清洗;
2)、配置微弧氧化电解液;
使用去离子水配置硅酸盐体系电解液,将配置好的硅酸盐体系电解液静置12h得到微弧氧化电解液;
3)、配置电泳沉积电解液:
将石墨烯碎片加入到有机溶剂中,超声分散2~3h,再加入硝酸盐,超声分散0.5~1h得到电泳沉积电解液;
4)、陶瓷层的制备:
①、将基体放入微弧氧化电解液中,以预处理后的基体作为阳极,微弧氧化电解槽作为阴极,在20℃恒温水浴的环境中,采用频率为50~500Hz,交流脉冲电压为400V~700V的交流电,在正负电压比5:1的条件下,将基体在步骤2)所配置的微弧氧化电解液中进行微弧氧化5~10min,将所制得的第一试样用去离子水洗净;
②、使用直流电源80~120V,以碳板为阳极,第一试样作为阴极,在室温下,将第一试样放入步骤3)所配置的电泳沉积电解液中进行电泳沉积3~7min,将所制得的第二试样用去离子水洗净;
③、再将第二试样放入微弧氧化电解液中,以步骤①的微弧氧化条件进行微弧氧化1~
10min,将第二试样取出用去离子水洗净,浸入去离子水中8h,并在空气中晾干。
2.根据权利要求1所述的一种含石墨烯微弧氧化耐蚀陶瓷层的制备方法,其特征在于:所述基体的材质为阀金属。
3.根据权利要求2所述的一种含石墨烯微弧氧化耐蚀陶瓷层的制备方法,其特征在于:所述阀金属为铝或铝合金。
4.根据权利要求1所述的一种含石墨烯微弧氧化耐蚀陶瓷层的制备方法,其特征在于:所述步骤2)中在去离子水中加入8~10g/L硅酸钠和1~2g/L氢氧化钠配置硅酸盐体系电解液。
5.根据权利要求1所述的一种含石墨烯微弧氧化耐蚀陶瓷层的制备方法,其特征在于:所述步骤3)中有机溶剂为异丙醇,所述石墨烯的重量与异丙醇的体积比为0.5~0.6。
6.如权利要求5所述的含石墨烯微弧氧化耐蚀陶瓷层的制备方法,其特征在于:所述步骤3)中硝酸盐为硝酸镁,所述硝酸镁的重量与加入石墨烯的异丙醇的体积比为0.5~0.6。