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专利号: 2020101891494
申请人: 长春理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2024-02-23
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种上电极中置电极对角分布垂直腔面发射半导体激光器,自上而下依次是上电极(1)、欧姆接触层(2)、上分布布拉格反射镜(3)、氧化物限制层(4)、有源增益区(5)、下分布布拉格反射镜(6)、衬底(7);欧姆接触层(2)、上分布布拉格反射镜(3)、有源增益区(5)层叠在一起构成一个中空的柱体,圆柱形齐顶高阻区(9)位于该柱体的中空部分,遮挡成形层(10)位于齐顶高阻区(9)的顶面上;其特征在于,所述的中空的柱体包括两部分,一部分是内含齐顶高阻区(9)的圆环柱体,该圆环柱体的轴线与圆柱形齐顶高阻区(9)的轴线重合,另一部分是自所述圆环柱体侧面任意处拓展出去的螺旋线柱体,该螺旋线柱体的螺旋线极坐标方程为 其中初始极半径ρ0在115μm~200μm范围内确定,形变因子ε在0.5~3.0范围内确定,极角 在 范围内确定;上电极(1)位于所述螺旋线柱体的上表面上,由螺旋线 一段圆弧线和一段直线围合而成;中置电极(8)位于下分布布拉格反射镜(6)的内镜面上,且位于所述中空的柱体之外,中置电极(8)的形状与上电极(1)的形状相同;上电极(1)与中置电极(8)以上电极(1)的几何中心与中置电极(8)的几何中心的连线与所述圆环柱体轴线的交点O'为对称中心呈点对称分布。

2.根据权利要求1所述的上电极中置电极对角分布垂直腔面发射半导体激光器,其特征在于,上电极(1)、中置电极(8)以及遮挡成形层(10)的材料相同,均为Ti/Pt/Au或者Ni/Ge/Au。

3.根据权利要求1所述的上电极中置电极对角分布垂直腔面发射半导体激光器,其特征在于,氧化物限制层(4)由圆环层及自该圆环层侧面拓展到螺旋线柱体内的螺旋线层组成。