1.一种多孔硼化锆材料，其特征在于，所述多孔硼化锆材料的孔道结构包括微孔和介孔，且微孔和介孔呈无序分布，其中微孔的含量占8～48％，介孔的含量占52～92％；所述多孔硼化锆材料的比表面积为100～1500m2/g；所述多孔硼化锆材料中锆和硼的摩尔比为1:

0.5～4。

2.根据权利要求1所述的多孔硼化锆材料，其特征在于，所述多孔硼化锆材料中锆和硼的摩尔比为1:2。

3.权利要求1或2所述多孔硼化锆材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将含锆前驱体、硼化剂与溶剂A混合后进行微波消解处理，得到混合物料；

(2)将所述混合物料静置，得到凝胶状物质；

(3)将所述凝胶状物质干燥，将干燥物料在X射线照射条件下进行硼化处理，得到多孔硼化锆材料。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述含锆前驱体包括氧化锆、氯化锆、硝酸锆、磷酸锆、硫酸锆、氢氧化锆、碳化锆、氟化锆、乙酰丙酮锆、三氟乙酰丙酮锆、六氟乙酰丙酮锆、正丙醇锆、正丁醇锆、异丙醇锆、异辛酸锆、硅酸锆、碘化锆、氮化锆、溴化锆和硫化锆中的一种或几种；

所述硼化剂包括硼酸、硼氢化钠、氧化硼、三氯化硼、硼粉、硼烷氨、碳化硼、氮化硼和三氟化硼中的一种或几种；

所述含锆前驱体中锆元素和硼化剂中硼元素的摩尔比为1:0.5～5。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂A包括水、甲醇、乙醇、丙酮、蔗糖溶液和淀粉溶液中的一种或几种。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述X射线的频率为30PHz～30EHz，X射线照射的时间为1～30h，通过X射线照射使干燥物料内部的温度达到300～1800℃。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述微波消解处理的频率为300MHz～

300GHz，处理时间为0.1～5h。

8.权利要求1或2所述多孔硼化锆材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(a)将含锆前驱体溶解于溶剂B中，然后加入含硼载体，对所得混合物进行微波消解处理，得到硼载锆材料；

(b)将所述硼载锆材料在X射线照射辅助下进行电离硼化处理，得到多孔硼化锆材料。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂B包括水、盐酸、硝酸、双氧水、甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、丙酮、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、四氢呋喃、环己醇、苯、甲苯、二甲基亚砜、乙醚、液氨和氨水中的一种或几种；

所述含硼载体包括硼粉、氧化硼、硼墨烯、无定形硼、α-菱形硼、β-菱形硼和四方相硼中的一种或几种。

10.权利要求1或2所述的多孔硼化锆材料或权利要求3～9任意一项所述制备方法制备的多孔硼化锆材料在乙炔氢氯化反应制备氯乙烯中的应用。