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专利号: 2020103446700
申请人: 西安建筑科技大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 建筑物
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种高延性混凝土滑移填充墙框架结构,包括框架柱(1)、框架梁(2)和设置在框架柱和框架梁之间的填充墙(3),其特征在于:所述填充墙(3)表面压抹高延性混凝土面层(5),所述高延性混凝土面层(5)预留至少一条的水平缝(4),且所述水平缝(4)位于填充墙(3)的水平灰缝处。

2.如权利要求1所述的高延性混凝土滑移填充墙框架结构,其特征在于,所述高延性混凝土面层(5)的厚度为10~30mm。

3.如权利要求1所述的高延性混凝土滑移填充墙框架结构,其特征在于,填充墙上水平缝分割出的每个区域的高宽比为0.2~0.5。

4.如权利要求1所述的高延性混凝土滑移填充墙框架结构,其特征在于,所述水平缝的宽度与填充墙的水平灰缝同宽。

5.如权利要求1所述的高延性混凝土滑移填充墙框架结构,其特征在于,所述高延性混凝土面层(5)预留两条、三条或四条的水平缝(4)。

6.一种上述任一权利要求所述的高延性混凝土滑移填充墙框架结构的施工方法,其特征在于,方法的具体步骤如下:步骤一,进行框架柱、框架梁及填充墙(3)施工;

步骤二,在填充墙(3)面预设水平缝处固定条形板;

步骤三,在填充墙(3)的表面均匀压抹高延性混凝土面层(5),待高延性混凝土面层(5)达到设计强度时,拆除条形板,即完成水平缝(4)施工。

7.一种建筑结构,其特征在于,所述建筑结构中采用权利要求1所述高延性混凝土滑移填充墙框架结构。