1.一种抗菌织物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)制备超疏水层：采用无纺布材料作为基底，将F-POSS的乙醇溶液以旋涂、喷涂或浸泡的方式作用到无纺布表面；所述F-POSS乙醇溶液的浓度为20mg/ml；

(2)制备抗菌过滤层：将无纺布作为基底放在等离子体清洗机中处理3min，以使所述无纺布表面带有负电荷；

在所述基底的表面制备复合层：

a)在所述无纺布表面喷涂或浸泡一层聚乙烯亚胺bPEI水溶液后清洗并干燥；所述bPEI水溶液的浓度为4-8mg/ml，pH值为6-9；

b)在形成有聚乙烯亚胺层的无纺布的表面喷涂或浸泡一层氧化锌ZnO水溶液后清洗并干燥；所述ZnO水溶液的浓度为8-12mg/ml；

c)在形成有聚乙烯亚胺层、氧化锌层的无纺布的表面喷涂或浸泡一层聚乙烯亚胺bPEI水溶液后清洗并干燥；所述bPEI水溶液的浓度为4-8mg/ml，pH值为6-9；

d)在(c)步骤形成的无纺布的表面喷涂或浸泡一层氧化石墨烯GO水溶液后清洗并干燥；所述GO水溶液的浓度为5-10mg/ml；pH值为7-8；

(3)制备亲肤接触层；

(4)将所述超疏水层、抗菌过滤层、亲肤接触层按序排列后进行压制，以形成抗菌织物。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述F-POSS的制备方法包括：将八乙烯基多面体低聚硅倍半氧烷vinyl–POSS、1H,1H,2H,2H-全氟癸硫醇、引发剂2,

2-二甲氧基-苯基苯乙酮溶解在二氯甲烷中以得到混合液；

所述八乙烯基多面体低聚硅倍半氧烷与所述1H,1H,2H,2H-全氟癸硫醇按照乙烯基与巯基1:1的比例加入，引发剂的添加量为1H,1H,2H,2H-全氟癸硫醇质量的1.6％；

利用250w紫外光照射所述混合液5min，以生成沉淀物，将所述沉淀物清洗后烘干待用。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在第一个所述复合层制备完毕后，还可按照复合层的制备方法循环制备1-4次，以使所述基底的外围包覆1-5层所述复合层。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述制备抗菌过滤层的步骤还包括：在所述抗菌过滤层制备完毕后，将其干燥，并进行紫外光照射；所述紫外光照射的时间为5-13h，紫外光照射的光源的电压为220V，光源的频率为50Hz，光源的功率为18W，照射距离为30-50cm。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述ZnO水溶液的制备方法包括：在搅拌条件下，将0.75g纳米氧化锌加到50mL、10mg/ml的钛酸酯水溶液中，超声振荡1-

2h；

在搅拌条件下，加入1.25g低聚丙烯酸钠，调节溶液pH值至9-10，超声振荡1-2h；

加入蒸馏水稀释至预定浓度。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述ZnO水溶液的浓度范围为8-12mg/ml。

7.一种抗菌织物，其特征在于，利用权利要求1至6中任一所述的制备方法制得。

8.一种口罩，包括口罩本体和耳带，其特征在于，所述口罩本体为采用权利要求1至6中任一所述制备方法制备的抗菌织物；所述口罩本体中，所述超疏水层、抗菌过滤层和亲肤接触层由外向里依次设置。