1.金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，所述方法包括：‑2

a. 间歇式等离子刻蚀：在真空度1～10 Pa，用流量50～4000sccm的Ar直接对金属板材进行间歇式等离子刻蚀，至金属板材的温度达到200～1200℃停止间歇式等离子刻蚀；a步骤所述等离子刻蚀的磁场强度条件为：10～60mT；a步骤所述间歇式等离子刻蚀的电源正负脉冲占空比为50～80%；a步骤所述间歇式等离子刻蚀的平均刻蚀深度3.9～8.6μm；

b.镀膜：a步骤停止间歇式等离子刻蚀后，立即在金属板材上镀膜；

所述间歇式等离子刻蚀的每次溅射刻蚀时间为1～60s，停机冷却时间10～3600秒。

2.根据权利要求1所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，所述金属板材的温度达到300～800℃停止间歇式等离子刻蚀。

3.根据权利要求1所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，所述镀膜采用电子束蒸发镀膜。

4.根据权利要求1所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述金属板材的幅宽100～1500mm、厚度0.1～0.5mm。

5.根据权利要求1或2所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，所述金属板材为不锈钢板。

6.根据权利要求1所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，所述金属板材为ST12、Q235或410钢板。

7.根据权利要求1或2所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述间歇式等离子刻蚀的靶基距为50～200mm。

8.根据权利要求1或2所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述电源条件为：频率10～100kHz，工作电压200～1200V、电流5～80A。

9.根据权利要求1或2所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述间歇式等离子刻蚀的刻蚀速率为2.4～2.7nm/s。

10.根据权利要求1或2所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，所述a步骤通入‑3 ‑4Ar前，控制真空度为10 ～10 Pa。