1.Ag‑Co薄膜/纳米颗粒/薄膜催化剂，其主体为Mo‑Ag合金膜，其特征在于：通过在聚酰亚胺基体上溅射沉积Mo‑Ag合金膜时形成蠕虫状Ag颗粒，之后在蠕虫状Ag颗粒表面溅射沉积一层Ag‑Co合金膜；所述Mo‑Ag合金膜的厚度为80‑200nm，其中Ag的含量为22‑29at%；所述Mo‑Ag合金膜是以聚酰亚胺为基体，并使其保持与基片台呈5‑10°夹角的悬垂状态后，溅射沉积获得。

2.根据权利要求1所述的Ag‑Co薄膜/纳米颗粒/薄膜催化剂，其特征在于：所述蠕虫状 Ag 颗粒的尺寸为 50‑180nm。

3.根据权利要求1所述的Ag‑Co薄膜/纳米颗粒/薄膜催化剂，其特征在于：所述Ag‑Co合金膜的厚度为15‑26nm。

4.根据权利要求1所述的Ag‑Co薄膜/纳米颗粒/薄膜催化剂的制备方法，通过在聚酰亚胺基体上溅射沉积Mo‑Ag合金膜时形成蠕虫状Ag颗粒，之后在形成蠕虫状Ag颗粒的表面溅 射沉积Ag‑Co合金膜即可得到，其特征在于：在溅射沉积Mo‑Ag合金膜时，使聚酰亚胺基体保持与基片台呈5‑10°夹角的悬垂状态进行溅射，且保证所溅射形成的Mo‑Ag合金膜的厚度为

80‑200nm，Ag的含量为22‑29at%。

5.根据权利要求4所述的Ag‑Co薄膜/纳米颗粒/薄膜催化剂的制备方法，其特征在于：

所述溅射沉积Ag‑Co合金膜时，采用由Ag靶与其表面覆盖的Co片构成复合靶材，施以射频溅射工艺，功率为100w，沉积时间为1‑2min。