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专利号: 2020107861492
申请人: 常熟理工学院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 一般的物理或化学的方法或装置
更新日期:2024-02-23
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种低温等离子体处理反应器,其特征在于,所述低温等离子体处理反应器包括低温等离子体高压接线端、针状电极、进样口、反应槽、低温等离子体低压接地端、曝气盘、空气泵和气体混合箱,所述高压接线端与多个并排的针状电极一端相连,所述多个针状电极的另一端垂直深入反应槽内,所述反应槽底部设置有曝气盘,所述曝气盘与空气泵相连,所述空气泵与气体混合箱相连通,所述气体混合箱外部分别设有氢气、氩气和甲烷气体的进气装置,并通过流量控制阀控制。

2.一种利用权利要求1所述的低温等离子体处理反应器制备碳化钼催化材料的方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)称取六羰基钼粉末,进行研磨1 3小时,得六羰基钼活化细粉末;

~

2)将所述的低温等离子体处理反应器中的曝气盘开启,通入氢气和氩气混合气体;

3)将六羰基钼活化细粉末从进样口装入反应槽中,随后进行低温等离子体照射1 3小~时,得还原钼粉;

4)停止曝气和低温等离子体照射,取出还原钼粉,研磨1 3小时,开启反应槽中曝气盘,~通入甲烷和氩气混合气体,然后将研磨后的还原钼粉从进样口装入反应槽中,进行低温等离子体照射1 3小时,得碳化钼催化剂。

~

3.根据权利要求2所述的低温等离子体处理反应器制备碳化钼催化材料的方法,其特征在于,所述步骤1)中六羰基钼活化细粉末的粒径为1 500nm。

~

4.根据权利要求2所述的低温等离子体处理反应器制备碳化钼催化材料的方法,其特征在于,所述步骤2)中氢气与氩气体积比为4 12:100。

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5.根据权利要求2所述的低温等离子体处理反应器制备碳化钼催化材料的方法,其特征在于,所述步骤2)和步骤3)中低温等离子体作用电压为5 50kV。

~

6.根据权利要求2所述的低温等离子体处理反应器制备碳化钼催化材料的方法,其特征在于,所述步骤3)甲烷和氩气体积比为20 30:100。

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7.根据权利要求2所述的低温等离子体处理反应器制备碳化钼催化材料的方法,其特征在于,所述步骤4)研磨后的还原钼粉粒径为1 200nm。

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8.权利要求2 7任一项所述的方法制备得到的碳化钼催化剂。

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9.权利要求8所述的碳化钼催化剂在生物固氮方面的应用。