1.一种石墨烯/银十六角星阵列拉曼增强基底的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：（1）银十六角星阵列的制备：用KLayout软件绘制十六角星阵列图案，这里在十六角星尖端设置数个间断点列来补偿电子散射引起的针尖畸变；以硅为衬底，PMMA为光刻胶，按照绘制的十六角星阵列图案，通过电子束曝光对光刻胶进行微纳光刻，然后进行显影、定影，得到十六角星形孔洞阵列光刻胶；对十六角星形孔洞阵列光刻胶进行金属铬和银薄膜沉积并剥离，得到银十六角星阵列；

（2）石墨烯/银十六角星阵列的制备：将石墨烯转移至步骤（1）获得的银十六角星阵列表面，在管式炉中退火，使石墨烯紧密贴合在银十六角星阵列表面，得到石墨烯/银十六角星阵列。

2.根据权利要求1所述的一种石墨烯/银十六角星阵列拉曼增强基底的制备方法，其特征在于，所述铬厚度为5 10nm，银厚度为30 100nm。

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3.根据权利要求1所述的一种石墨烯/银十六角星阵列拉曼增强基底的制备方法，其特征在于，所述十六角星的尺寸和尖细程度以及相邻十六角星之间的间距可以通过调节绘制的十六角星尺寸与针尖形状进行调控。

4.根据权利要求1所述的一种石墨烯/银十六角星阵列拉曼增强基底的制备方法，其特征在于，所述退火温度为100 200°C，退火时间为20 60min。

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