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专利号: 2020109340292
申请人: 西安邮电大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 光学
更新日期:2023-11-20
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种2μm波段的条‑槽‑条型极大负色散光波导,其特征在于,所述极大负色散光波导包括:衬底(1),所述衬底(1)由二氧化硅组成;在所述衬底(1)的顶部设置有条‑槽‑条型波导结构;

所述条‑槽‑条型波导结构包括:下条型波导(2)、槽型波导(3)和上条型波导(4);所述上条型波导(4)、所述槽型波导(3)和所述下条型波导(2)在所述衬底(1)的顶部垂直方向上自上而下分布;其中,所述下条型波导(2)由氮化硅组成,所述槽型波导(3)由硅、二氧化硅构成;所述上条型波导(4)是由材料硅构成。

2.如权利要求1所述的一种2μm波段的条‑槽‑条型极大负色散光波导,其特征在于,所述条‑槽‑条型波导结构还包括:二氧化硅媒介(5);在所述下条型波导(2)、所述槽型波导(3)和所述上条型波导(4)两两之间通过所述二氧化硅媒介(5)隔开。

3.如权利要求1所述的一种2μm波段的条‑槽‑条型极大负色散光波导,其特征在于,所述下条型波导(2)由氮化硅组成,其在λ=2μm处折射率n=1.983。

4.如权利要求2所述的一种2μm波段的条‑槽‑条型极大负色散光波导,其特征在于,所述槽型波导(3)由两个夹板层(6)和槽芯(7)组成,所述槽芯(7)处于两个所述夹板层(6)之间;

所述槽型波导(3)的夹板层(6)由硅制成,其在λ=2μm处折射率n=3.48;所述槽型波导(3)的槽芯(7)由二氧化硅制成,其在λ=2μm处折射率n=1.44。

5.如权利要求1所述的一种2μm波段的条‑槽‑条型极大负色散光波导,其特征在于,所述上条型波导(4)由材料硅制成,其在λ=2μm处折射率n=3.45。

6.如权利要求4所述的一种2μm波段的条‑槽‑条型极大负色散光波导,其特征在于,所述条‑槽‑条型波导结构在水平方向上的宽度为500nm,在垂直方向上的高度为4415nm。

7.如权利要求6所述的一种2μm波段的条‑槽‑条型极大负色散光波导,其特征在于,所述下条型波导(2)在垂直方向上的高度为1050nm;所述上条型波导(4)在垂直方向上的高度为305nm;所述槽型波导(3)在垂直方向上的高度为380nm。

8.如权利要求7所述的一种2μm波段的条‑槽‑条型极大负色散光波导,其特征在于,所述上条型波导(4)与所述槽型波导(3)之间的所述二氧化硅媒介(5)在垂直方向上的高度为

1400nm;所述下条型波导(2)与所述槽型波导(3)之间的所述二氧化硅媒介(5)在垂直方向上的高度为1280nm。

9.如权利要求8所述的一种2μm波段的条‑槽‑条型极大负色散光波导,其特征在于,所述夹板层(6)在垂直方向上的高度为160nm,所述槽芯(7)在垂直方向上的高度为60nm。

10.如权利要求9所述的一种2μm波段的条‑槽‑条型极大负色散光波导,其特征在于,所述衬底(1)在水平方向上的宽度为2000nm,在垂直方向上的高度为4180nm。