1.一种铜箔/碳纳米管/铜箔复合箔的制备方法，包括以下步骤：(1)碳纳米管的预处理：将碳纳米管加入H2SO4-HNO3的混酸溶液处理得到经表面改性的碳纳米管；

(2)电镀液1的配制：硫酸铜-硫酸的混合水溶液；

(3)电镀液2的配制：将表面改性的碳纳米管与PDDA、含Cl-的盐酸或电解质、MPS加入到硫酸铜-硫酸混合水溶液中，超声清洗使碳纳米管在溶液中能够均匀分散。

(4)复合箔的制备：以纯铜板为阳极，钛板为阴极，依次在电镀液1、电镀液2、电镀液1进行电沉积，清洗干燥后得到铜-碳纳米管/铜-铜复合箔。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，铜离子浓度为40～80g/L，优选为50～60g/L。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，硫酸浓度为50～100g/L,优选为60～70g/L。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，碳纳米管浓度为0.05～0.5g/L，优选为0.1～0.2g/L。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，聚二烯丙基二甲基氯化铵浓度为0.5～10ppm，优选为1～3ppm。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，Cl-浓度为5～50ppm，优选为10～

20ppm。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，3-巯基-1-丙烷磺酸钠浓度为0.5～

15ppm，优选为1～5ppm。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，电流密度分别为1～5A/dm2、0.5～2.5A/dm2、5～15A/dm2，优选为2～3A/dm2、1～2A/dm2、5～8A/dm2。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，电沉积时间分别为200s～

500s、50s～150s、200～500s，优选为300s～350s、80s～100s、300～350s。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所制备的铜箔/碳纳米管/铜箔复合箔，厚度为6-10μm，粗糙度Rz＜2μm，电阻率小于2.0×10-8Ω·m，抗拉强度为450MPa以上。