1.一种单细胞阵列的获取方法，其特征在于，具体包括以下步骤：(1)制备超薄通孔金属片，清理后备用；

所述超薄通孔金属片的制备方法为激光打孔或微加工，所述超薄通孔金属片的厚度≤

10μm，孔径为10‑25μm；

(2)将超薄通孔金属片紧贴于基板，压紧至无气泡；

(3)抽取细胞悬液置于超薄通孔金属片的通孔区域，培养箱中静置；

(4)抽除细胞悬液，并用缓冲液冲洗通孔区域，然后取下超薄通孔金属片，即得所述单细胞阵列。

2.根据权利要求1所述的一种单细胞阵列的获取方法，其特征在于，步骤(2)中，先在基板上平铺一层缓冲层，再将超薄通孔金属片紧贴于缓冲层，压紧至无气泡。

3.根据权利要求1所述的一种单细胞阵列的获取方法，其特征在于，步骤(2)中，先采用包被物质在基板上形成一层包被层，再将超薄通孔金属片紧贴于包被层，压紧至无气泡。

4.根据权利要求1所述的一种单细胞阵列的获取方法，其特征在于，步骤(2)中，先在基板上平铺一层缓冲层，再采用包被物质在缓冲层上形成一层包被层，最后将超薄通孔金属片紧贴于包被层，压紧至无气泡。

5.根据权利要求2或4所述的一种单细胞阵列的获取方法，其特征在于，所述缓冲层为聚二甲基硅氧烷或水凝胶。

6.根据权利要求3或4所述的一种单细胞阵列的获取方法，其特征在于，所述包被物质为粘连蛋白、MSC促贴壁试剂、多聚赖氨酸、胶原蛋白和氨基丙基三乙氧基硅烷中的任意一种。

7.根据权利要求1‑4任一项所述的一种单细胞阵列的获取方法，其特征在于，步骤(1)中，所述清理的具体操作为：先将超薄通孔金属片置于无水乙醇中进行超声处理，然后依次使用无水乙醇和去离子水进行清洗，最后用氮气吹干，高压或紫外灭菌；其中，超声处理的功率为0.3‑0.5W/cm2，温度为20‑100℃，时间至少为5min。

8.根据权利要求1‑4任一项所述的一种单细胞阵列的获取方法，其特征在于，步骤(3)中，所述静置的时间为20‑120min，温度为36‑38℃，二氧化碳浓度为4％‑6％。

9.根据权利要求1‑4任一项所述的一种单细胞阵列的获取方法，其特征在于，步骤(4)中，所述缓冲液为磷酸盐缓冲液、汉可氏平衡盐溶液和杜氏磷酸盐缓冲液中的任意一种。