1.一种2-芳硫基吡啶-N-氧化物的制备方法，其特征在于，将具有式1结构的芳香卤代烃、具有式2结构的化合物在碱下进行反应，制得式3结构的2-芳硫基吡啶-N-氧化物产物；Ar-X式1

所述的Ar为芳基；所述的X为卤素；R1～R4独自为-H、-NO2、-NH2、-CN、-COOH、-COOR、-CH2OH、-COR、烷基、C1～C10的烷氧基、芳基、卤素或三氟甲基；所述的R为烷基；所述的碱为碱金属氢氧化物、醇化合物中的至少一种；反应过程的溶剂为醇水混合液、DMSO、DMF中的至少一种。2.如权利要求1所述的2-芳硫基吡啶-N-氧化物的制备方法，其特征在于，所述的芳基为苯基、五元杂环芳基、六元杂环芳基，或者由苯基、五元杂环芳基、六元杂环芳基中的任意两个及以上的芳香环稠合形成的稠环芳基；所述的苯基、五元杂环芳基、六元杂环芳基、稠环芳基的芳香环上允许带有取代基；所述的取代基为-NO2、-NH2、-CN、-COOH、-COOR、-CH2OH、-COR、烷基、C1～C10的烷氧基、芳基、卤素或三氟甲基中的至少一种。3.如权利要求1所述的2-芳硫基吡啶-N-氧化物的制备方法，其特征在于，所述的芳香卤代烃为具有式1-A、式1-B、式1-C、式1-D结构式的化合物中的至少一种：式1-A、式1-B、式1-C、式1-D中，所述的R5和X位于各自芳香环的任意位置；且所述的R5为-H、-NO2、-NH2、-CN、-COOH、-COOR、-CH2OH、-COR、烷基、C1～C10的烷氧基、芳基、卤素或三氟甲基；所述的X为-Cl、-Br或-I；所述的Y为O、S、NH或者-NR。4.如权利要求1所述的2-芳硫基吡啶-N-氧化物的制备方法，其特征在于，式2结构的化合物大于或等于理论摩尔量；优选为理论反应量的1～2倍；进一步优选为理论反应量的1.2～1.6倍。5.如权利要求1所述的2-芳硫基吡啶-N-氧化物的制备方法，其特征在于，所述的碱为氢氧化钠、氢氧化钾、叔丁醇钾、叔丁醇钠中的至少一种；优选地，所述的碱的用量为式2化合物摩尔量的2～5倍；优选为2.5～3倍。6.如权利要求1所述的2-芳硫基吡啶-N-氧化物的制备方法，其特征在于，反应溶剂为醇水混合液，其中的醇为能与水任意比混溶的醇，优选为C1～C4的一元醇或者多元醇；进一步优选为甲醇、乙醇、丙醇中的至少一种；优选地，所述的醇水混合液中，所述的醇和水的体积比为0.5～2.5:1；进一步优选为1～1.5:1。7.如权利要求1所述的2-芳硫基吡啶-N-氧化物的制备方法，其特征在于，反应过程的温度大于或等于80℃；优选地，反应过程的温度为80～150℃；优选地，反应时间大于或等于芳香卤代烃原料转化率大于90％的时间。8.一种2-芳硫基吡啶化合物的制备方法，其特征在于，采用权利要求1～7任一项所述的制备方法制得2-芳硫基吡啶-N-氧化物产物，随后将其进行还原反应，制得式4结构的2-芳硫基吡啶化合物；

优选地，所述的还原反应过程中采用的还原剂为Pd/C、PCl3中的至少一种；优选地，所述的还原反应中，当还原剂为Pd/C时，还原剂的用量为2-芳硫基吡啶-N-氧化物摩尔量的1-20％；当还原剂为PCl3时，还原剂的用量不低于将2-芳硫基吡啶-N-氧化物中的吡啶氧完全反应的理论摩尔量，优选为理论摩尔量的5-10倍；优选地，当还原剂为Pd/C时，还原反应过程的溶剂为甲醇、乙醇、异丙醇中的至少一种；当还原剂为PCl3时，还原反应过程的溶剂为氯仿、二氯甲烷中的至少一种。9.一种2-芳硫砜基吡啶化合物的制备方法，其特征在于，采用权利要求8所述的方法制得2-芳硫基吡啶化合物，随后进行氧化反应，制得式5结构的2-芳硫砜基吡啶化合物；

优选地，所述的氧化反应过程中采用的氧化剂为间氯过氧苯甲酸；优选地，所述的氧化反应中，氧化剂的用量不低于将2-芳硫基吡啶化合物中的硫完全反应的理论摩尔量，优选为理论摩尔量的2-3倍；优选地，氧化反应过程的溶剂为二氯甲烷，氯仿中的至少一种；优选地，氧化反应过程的温度为20-40℃。10.一种2-芳硫砜基吡啶-N-氧化物的制备方法，其特征在于，采用权利要求1～7任一项所述的制备方法制得2-芳硫基吡啶-N-氧化物产物，随后将其进行氧化反应，制得式6结构的2-芳硫砜基吡啶-N-氧化物；

优选地，所述的氧化反应过程中采用的氧化剂为间氯过氧苯甲酸；优选地，所述的氧化反应中，氧化剂的用量不低于将2-芳硫基吡啶-N-氧化物中的硫完全反应的理论摩尔量，优选为理论摩尔量的2-3倍；优选地，氧化反应过程的溶剂为二氯甲烷、氯仿中的至少一种；优选地，氧化反应过程的温度为20-40℃。