1.一种柔性透明场发射冷阴极的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）在柔性透明基底上沉积导电透明金膜；

（2）在沉积金膜的基底上附着AAO模板；

（3）利用真空物理沉积技术制备得spindt型金属阵列；

（4）去除AAO模板，得到场发射阴极材料。

2.根据权利要求1所述的柔性透明场发射冷阴极的制备方法，其特征在于，所制备的柔性透明场发射冷阴极包括：耐高温柔性透明基底，导电透明金膜，以及沉积在导电透明金膜上的spindt型金属阵列。

3.根据权利要求1或2所述的柔性透明场发射冷阴极的制备方法，其特征在于，基底材料采用耐高温柔性透明材料。

4.根据权利要求1或2所述的柔性透明场发射冷阴极的制备方法，其特征在于，在步骤（1）中，基底采用乙醇进行超声波清洗。

5.根据权利要求1或2所述的柔性透明场发射冷阴极的制备方法，其特征在于，在步骤（2）中，用滴管吸取适量乙醇，滴在基底上，在乙醇完全挥发前，将AAO模板 贴附到基底上。

6.根据权利要求1或2所述的柔性透明场发射冷阴极的制备方法，其特征在于，在步骤（3）中，沉积技术选用磁控溅射技术、脉冲激光沉积技术或电子束蒸发技术任一种。

7.根据权利要求1或2所述的柔性透明场发射冷阴极的制备方法，其特征在于，在步骤（3）中，沉积的金属选择功函数较小的金属，其形状为spindt型。

8.根据权利要求1或2所述的柔性透明场发射冷阴极的制备方法，其特征在于，步骤（4）中，使用胶带将AAO模板粘掉，得到柔性透明场发射冷阴极。