1.一种三氧化钼纳米薄膜的制备方法，其特征在于，该方法具体包括以下步骤：步骤(1).称取1～5g无水硫代硫酸钠和1～5g硫化钼，两者通过机械搅拌充分混合后放入刚玉坩埚中；

步骤(2).然后用直径大于刚玉坩埚的开口直径的基板，封盖在刚玉坩埚上面，之后再将刚玉坩埚放入管式炉中；

步骤(3).向管式炉中输入气体，气体为由氩氢和空气混合而成，氩氢体积占比为30‑

70％，其中氢气的体积占5％；通过真空系统保持管式炉内压力0.5‑1个大气压；

步骤(4).将管式炉升温至850～1000℃，升温速率为20～30℃/min，温度到达850～

1000℃后保温30～120min；

步骤(5).保温阶段结束后，停止加热，使管式炉在室温环境中自然降温直至室温，然后取出基板；

步骤(6).将基板放入盛有蒸馏水的烧杯中，基板表面的钠盐溶解后，获得悬浮于水中的三氧化钼纳米薄膜；该纳米薄膜可通过用硅片捞取的方法转移至硅片表面。

2.根据权力要求1所述的一种三氧化钼纳米薄膜的制备方法，其特征在于：步骤(1)所述硫化钼为硫化钼固体粉末。

3.根据权力要求1所述的一种三氧化钼纳米薄膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)所述基板为石英玻璃，或硅片、蓝宝石。

4.根据权力要求1所述的一种三氧化钼纳米薄膜的制备方法，其特征在于：步骤(3)所述空气为大气或氧气。

5.根据权力要求1所述的一种三氧化钼纳米薄膜的制备方法，其特征在于：所述的刚玉坩埚的开口直径为3.5cm，基板直径为4cm。