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专利号: 2020116355875
申请人: 齐鲁工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.Si@void@C嵌入三维多孔碳网负极材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将硅粉超声分散于去离子水溶液中,得到被水化膜包裹的硅粉;

(2)以Tween 80、Span 85和苯乙烯单体作为油相,称取硅烷偶联剂和光敏剂依次放入油相中,超声处理得到油相溶液;

(3)将被水化膜包裹的硅粉与油相溶液混合并乳化搅拌,再进行紫外线照射,然后真空冷冻干燥,再送入Ar气环境中碳化,最后经水热处理得到灰黑色产物。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述硅粉的纯度为

99.99%,粒径为50 200 nm。

~

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述硅粉与去离子水的加入量之比为 (40 90)mg:(10 16)mL。

~ ~

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,Tween 80、Span 85与苯乙烯单体的体积比为(0.02 0.06):(0.08 0.24):(30 60),硅烷偶联剂与光敏剂的用量比为~ ~ ~

(0.8 1.2)mL:(0.03 0.06)g;所述硅烷偶联剂与油相的体积比为(0.8 1.2):(30 60)。

~ ~ ~ ~

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述硅烷偶联剂为乙烯三乙氧基硅烷;所述光敏剂为二苯氧膦。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,被水化膜包裹的硅粉与油相溶液的加入量之比为 (40 90)mg:(30 60) mL。

~ ~

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述紫外线照射的时间为

1 3h。

~

8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,碳化温度为650 850 ℃,~

碳化时间为2 4h;水热处理的温度为120 160 ℃,时间为16 36 h。

~ ~ ~

9.权利要求1 8中任一项所述的制备方法制备得到Si@void@C嵌入三维多孔碳网负极~

材料。

10.权利要求9所述的Si@void@C嵌入三维多孔碳网负极材料在锂电池中的应用。