1.一种药浴足浴盆，包括主体箱(2)和底座(1)，其特征在于：所述底座(1)顶部固定设有主体箱(2)，所述主体箱(2)顶部固定设有顶盖(3)，所述顶盖(3)一侧固定设有控制器(4)，所述主体箱(2)底部固定设有加热管(10)，所述主体箱(2)内部下端一侧固定设有转轴(12)，所述转轴(12)上固定设有搅拌叶(13)，所述主体箱(2)内自下往上三分之一处固定设有滤板(11)，所述滤板(11)上固定设有多个支架(14)，所述主体下端嵌入设置有药剂槽(8)，所述药剂槽(8)外侧固定设有把手(9)。

2.根据权利要求1所述的一种药浴足浴盆，其特征在于，所述支架(14)呈半圆弧形，且支架(14)上均匀设有按摩轴(17)，所述按摩轴(17)呈圆润的齿轮状。

3.根据权利要求1所述的一种药浴足浴盆，其特征在于，所述顶盖(3)内侧通过螺栓活动设有盖板(18)，所述盖板(18)一侧对称设有凹槽(7)，所述凹槽(7)外侧固定设有固定板(5)在顶盖(3)上，所述固定板(5)上固定设有喷雾罩(6)，且喷雾罩(6)内部呈空心状。

4.根据权利要求3所述的一种药浴足浴盆，其特征在于，所述喷雾罩(6)中部通过螺栓设有引导板(16)，所述喷雾罩(6)上端固定设有滤网(15)。

5.根据权利要求1所述的一种药浴足浴盆，其特征在于，所述底座(1)呈梯形状，且底座(1)为橡胶材质。

6.根据权利要求1所述的一种药浴足浴盆，其特征在于，所述转轴(12)与药剂槽(8)穿插设置，所述滤板(11)设置在药剂槽(8)上方。