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专利号: 202021784006X
申请人: 佛山市恺瑟格斯陶瓷有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
专利领域: 建筑物
更新日期:2025-02-19
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种凹凸纹理釉面砖,包括瓷砖体(1),其特征在于,所述瓷砖体(1)上设有瓷砖正面(2)和瓷砖背面(3),所述瓷砖背面(3)与安装支架磁吸连接,所述瓷砖正面(2)上设有凸筋(4),所述凸筋(4)成X型,所述凸筋(4)的中间位置上设有凹槽(14),所述凸筋(4)与凹槽(14)表面覆盖有釉面层,所述瓷砖背面(3)的中间位置上设有磁体安装槽(5),该磁体安装槽(5)与凹槽(14)相对应,所述磁体安装槽(5)内安装有圆形磁体(13)。

2.根据权利要求1所述的一种凹凸纹理釉面砖,其特征在于,所述瓷砖背面(3)上下端分别对称设有磁片槽(6),该磁片槽(6)内嵌入安装有磁片(15),该磁片槽(6)一侧设有定位支撑槽(7)。

3.根据权利要求1所述的一种凹凸纹理釉面砖,其特征在于,所述安装支架包括上横架(8)和下横架(9),该上横架(8)与下横架(9)之间通过竖架(12)相连接。

4.根据权利要求3所述的一种凹凸纹理釉面砖,其特征在于,所述上横架(8)与下横架(9)上均设有与磁片(15)相对应的条形磁体(10),该条形磁体(10)的一侧设有凸出的定位插板(11),该定位插板(11)与定位支撑槽(7)相对应。

5.根据权利要求3所述的一种凹凸纹理釉面砖,其特征在于,所述竖架(12)与圆形磁体(13)相对应,该竖架(12)为可磁吸的金属片。

6.根据权利要求1所述的一种凹凸纹理釉面砖,其特征在于,所述凸筋(4)的高度为1‑

2mm。

7.根据权利要求1所述的一种凹凸纹理釉面砖,其特征在于,所述凹槽(14)的槽深为1‑

2mm。

8.根据权利要求1所述的一种凹凸纹理釉面砖,其特征在于,所述凹槽(14)的槽底与圆形磁体(13)的距离为3‑4mm。