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专利号: 2020225570880
申请人: 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2025-02-19
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种器件连接结构,其特征在于,所述器件连接结构包括:基板(110);

分布在所述基板(110)上的多个器件(120);

覆盖在多个所述器件(120)上的导体层(130),所述导体层(130)与多个所述器件(120)电连接,所述导体层(130)上开设有至少一个镂空区(131),所述镂空区(131)位于相邻的所述器件(120)之间。

2.根据权利要求1所述的器件连接结构,其特征在于,所述导体层(130)上远离所述器件(120)的表面为轴对称形状。

3.根据权利要求1所述的器件连接结构,其特征在于,所述导体层(130)上远离所述器件(120)的表面为中心对称形状。

4.根据权利要求1所述的器件连接结构,其特征在于,所述器件(120)在所述基板(110)上呈环状排布,所述镂空区(131)的数量为一个、且位于所述环状的中心位置。

5.根据权利要求1所述的器件连接结构,其特征在于,所述器件(120)呈矩阵形式排布,相邻两行所述器件(120)之间的区域和/或相邻两列所述器件(120)之间的区域开设有所述镂空区(131)。

6.根据权利要求5所述的器件连接结构,其特征在于,每相邻两行所述器件(120)之间的区域开设有一个所述镂空区(131),所述镂空区(131)沿行的长度方向延伸,所述镂空区(131)的长度小于每行的长度。

7.根据权利要求6所述的器件连接结构,其特征在于,相邻两个所述镂空区(131)错位设置。

8.根据权利要求5所述的器件连接结构,其特征在于,每相邻两行所述器件(120)之间的区域开设有两个间隔的所述镂空区(131),两个所述镂空区(131)分别分布在所述导体层(130)的两侧、且均延伸至所述导体层(130)的边缘。

9.根据权利要求5所述的器件连接结构,其特征在于,所述器件(120)的行数为M,前N行所述器件(120)中,相邻两行所述器件(120)之间的区域,后M‑N行所述器件(120)中,相邻两列所述器件(120)之间的区域开设有所述镂空区(131),其中,M、N均为正整数,M大于N。

10.一种半导体,其特征在于,所述半导体包括权利要求1~9任一项所述的器件连接结构。