1.一种高频自动淬火回火装置，包括处理箱（1），其特征在于：所述处理箱（1）的表面设置有第一滑动槽（2），所述第一滑动槽（2）的内部设置有滑动块，所述滑动块的一侧滑动设置有推拉门（3），所述处理箱（1）内部的一侧设置有第二滑动槽（4），所述第二滑动槽（4）的内部设置有滑动杆（5），所述滑动杆（5）的表面滑动连接有放置板（6），所述放置板（6）的表面设置有出水口，所述处理箱（1）的顶部设置有排气管（10），所述处理箱（1）的一侧设置有蓄水箱（15）。

2.根据权利要求1所述的一种高频自动淬火回火装置，其特征在于：所述处理箱（1）内壁的一侧设置有电加热箱（7），所述电加热箱（7）的内部设置有电加热丝（8），所述电加热丝（8）的一侧设置有第一电加热板（9）。

3.根据权利要求2所述的一种高频自动淬火回火装置，其特征在于：所述电加热箱（7）的下方设置有风箱（11），所述风箱（11）的内部设置有排风扇（12），所述排风扇（12）的一侧设置有第二电加热板（13）。

4.根据权利要求1所述的一种高频自动淬火回火装置，其特征在于：所述蓄水箱（15）的顶部设置有第一输水管（16），所述蓄水箱（15）的内部设置有第二输水管（17），所述第二输水管（17）的表面设置有第一水泵（18）。

5.根据权利要求4所述的一种高频自动淬火回火装置，其特征在于：所述处理箱（1）内壁的底部设置有储水箱（14），所述第二输水管（17）的一端穿过处理箱（1）与储水箱（14）连接，所述储水箱（14）的一侧设置有排水管（19），所述排水管（19）的表面设置有水阀（20）。

6.根据权利要求5所述的一种高频自动淬火回火装置，其特征在于：所述排水管（19）的一端连接有制冷箱（21），所述制冷箱（21）的内部设置有半导体制冷片（22），所述制冷箱（21）的一端设置有第三输水管（23），所述第三输水管（23）的表面设置有第二水泵（24），所述第三输水管（23）的一端与蓄水箱（15）连接。