1.一种胶束刻蚀制备聚(3,4‑二氧乙烯噻吩)纳米图案的方法，其特征是，包括如下步骤，

1)处理基板，将玻璃基板清洗完成后，采用水和惰性气体的混合等离子气体处理玻璃基板，将玻璃基板表面的有机杂物除去以及羟基化，然后将其置于湿度为40‑80％的环境中一段时间，使玻璃基板吸收水分直至平衡；

2)旋涂氧化物薄膜，将氧化剂溶液滴加到玻璃基板上，控制环境温度为8‑12℃，旋转玻璃基板，使玻璃基板上形成氧化剂薄膜，旋转完成后静置一段时间；所述氧化剂溶液中，氧化剂为甲基苯磺酸铁，溶剂为正丁醇，还含有聚氧丙烯聚氧乙烯嵌段共聚物；

3)形成聚(3,4‑二氧乙烯噻吩)纳米图案，将形成有氧化剂薄膜的玻璃基板置于气相合成室内，加热3,4‑二氧乙烯噻吩单体，使其内部形成3,4‑二氧乙烯噻吩单体蒸汽，控制气相合成室内湿度为35‑45％，温度为13‑17℃，反应一段时间后，清洗，干燥，得到聚(3,4‑二氧乙烯噻吩)纳米图案。

2.如权利要求1所述的方法，其特征是，步骤1)中，玻璃基板清洗方式先为超声波清洗，后采用水与氩气的混合等离子气体清洗。

3.如权利要求1所述的方法，其特征是，氧化剂溶液中，甲基苯磺酸铁质量浓度为6％。

4.如权利要求1所述的方法，其特征是，氧化剂溶液中，聚氧丙烯聚氧乙烯嵌段共聚物的质量浓度为0.1％。

5.如权利要求1所述的方法，其特征是，氧化剂溶液中，还包括2wt％的亚乙基二尿烷二醇。

6.如权利要求1所述的方法，其特征是，步骤2)中，旋转玻璃基板的旋转控制程序依次为，500转/分，5秒；2500转/分，30秒；500转，5秒。

7.如权利要求1所述的方法，其特征是，步骤2)中，旋转完成后静置时间为2min。

8.如权利要求1所述的方法，其特征是，步骤3)中，3,4‑二氧乙烯噻吩单体的加热温度为70℃。

9.如权利要求1所述的方法，其特征是，步骤3)中，采用无水乙醇将未反应完全的成分洗除。

10.如权利要求1所述的方法，其特征是，步骤3)中，干燥方式为，将样品置于真空干燥箱中，在温度为80℃下真空干燥得到。