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专利号: 2021101985636
申请人: 西南交通大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 测量;测试
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种抗地形效应与背景影响的新型植被指数的校正方法,其特征在于,包括以下步骤:

A收集植被的遥感影像和DEM数据;

B由所述DEM数据计算坡度、坡向,对所述遥感影像进行大气校正,获得地表反射率;

C根据坡度数据和地表反射率计算各像元对应的植被指数NIRv和地形校正因子P;

D将所述植被指数NIRv和地形校正因子P作为输入计算抗地形植被指数,所述计算抗地形植被指数的计算公式为

TCNIRV=NIRV·P    (9)。

2.根据权利要求1所述一种抗地形效应与背景影响的新型植被指数的校正方法,其特征在于,所述植被指数的计算公式为NIRV=NDVI·NT=NDVI·NIR      (8) 。

3.根据权利要求1所述一种抗地形效应与背景影响的新型植被指数的校正方法,其特征在于,所述地形校正因子的计算公式为式中S和St分别为平地和山地的消光路径长度,Ω1和Ω2分别是入射方向和出射方向。