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专利号: 2021103630544
申请人: 河南科技大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种稀土镁合金金相腐蚀剂,其特征在于:由氯化盐、硼酸和以下体积份数的组分组成:甘油16—24份、无水乙醇50—70份、蒸馏水14—26份;所述氯化盐的加入量为:每100mL 溶液中加入氯化盐2.5‑4.5g;所述硼酸的加入量为:每100mL 溶液中加入硼酸7‑11g。

2.根据权利要求1所述的稀土镁合金金相腐蚀剂,其特征在于:氯化盐为氯化钠或氯化钾。

3.根据权利要求1—2中任一条所述的稀土镁合金金相腐蚀剂,其特征在于:各组分的用量分别如下:氯化钠    2.5‑4.5g

硼酸      7‑11g

甘油      16‑24mL

无水乙醇  50‑70mL

蒸馏水    14‑26mL 。

4.根据权利要求1所述的稀土镁合金金相腐蚀剂,其特征在于:所述的稀土镁合金中稀土含量为7—13%。

5.一种如权利要求1所述的稀土镁合金金相腐蚀剂在获得稀土镁合金金相试样方面的应用。

6.根据权利要求5所述的应用,其特征在于:包括以下步骤:(1)试样制备:取样,试样表面平整;

(2)研磨:金相试样研磨采用粒度分别为400或者800的水砂纸进行粗磨,然后采用粒度为1500和2000的水砂纸进行精磨;

(3)机械抛光:对经过精磨的试样在抛光机上进行抛光,抛光选用市售研磨膏和抛光布,抛光标准试样表面光亮如镜面,无明显划痕;

(4)清洗:将抛光后的试样采用无水乙醇清洗;

(5)腐蚀剂侵蚀:用腐蚀剂腐蚀30‑90s,腐蚀后的试样采用无水乙醇进行清洗,即得到高质量的金相试样。

7.根据权利要求6所述的应用,其特征在于:步骤(1)中试样为立方体或者圆柱。

8.根据权利要求6所述的应用,其特征在于:步骤(3)所述的机械抛光所选用的研磨膏为水溶性,粒度DNW0.5的金刚石研磨膏;抛光布选用长绒毛真丝丝绒抛光布;在机械抛光前先将抛光布用蒸馏水润湿;将抛光布固定在抛盘上,在靠近中心的部位均匀涂抹研磨膏;在抛光的过程中用无水乙醇均匀滴在抛光布的中心,以保持抛光布的湿润,无水乙醇的滴加速度要适中。