1.一种基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)称取LiF原料,与不高于50wt%的去离子水进行混合;
(2)将步骤(1)所得的固液混合粉末置于模具中,同时放入热压机中进行冷烧结;其中,冷烧结过程中,控制热压机的工作温度100℃
(3)将步骤(2)所得的陶瓷生坯置入80‑200℃烘箱中烘干至恒重。
2.根据权利要求1所述基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法,其特征在于,还包括步骤(4),将步骤(3)所得的LiF陶瓷块体表面依次在800目、1000目、1500目、2000目、
3000目砂纸上打磨,获得透明陶瓷。
3.根据权利要求1‑2任一项所述的基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法,其特征在于,所述步骤(1)之前,还包括:将LiF原料与氧化锆球磨介质、无水乙醇溶剂放入球磨机连续球磨获得均匀细小的LiF粉末。
4.根据权利要求3所述的基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法,其特征在于,LiF原料、氧化锆球磨介质、无水乙醇的质量比为1:3:2。
5.根据权利要求3所述的基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法,其特征在于,所述的球磨机为行星式球磨机,转速控制在180~250r/min。
6.根据权利要求1‑2任一项所述的基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法,其特征在于,步骤(1)中,所述LiF原料的纯度为99.99%。
7.根据权利要求1所述的基于冷烧结技术制备高透光率透明陶瓷的方法,其特征在于,步骤(2)中,所述冷烧结的升温工艺包括:以5℃/min的速度升温至设定温度。
8.如权利要求1‑7任一项所述方法制得的透明陶瓷,其特征在于,所述透明陶瓷在
400nm、800nm和2000nm处的直线透过率分别高达72.5%、79%、72%。