1.一种用于氮化物前躯体的脱卤液,其特征在于:该脱卤液由溶剂和脱卤活性物质组成,其中溶剂采用液氨,脱卤活性物质采用有机碱,且脱卤活性物质占脱卤液总质量的0.05
0.5%;所述的脱卤活性物质包括丙烯酰胺、异喹啉、吡啶、三乙胺、四甲基氢氧化铵中的任~一种或多种;所述氮化物前驱体包含Si、B、Ti、Ta元素中的任一种或多种,同时包含F、Cl、Br、I四种卤素中的任一种,卤素占前驱体总质量的0.01 2%。
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2.一种用于氮化物前躯体的脱卤方法,其特征在于:采用权利要求1所述的脱卤液对氮化物前躯体中的卤素离子进行脱除。
3.根据权利要求2所述的一种用于氮化物前躯体的脱卤方法,其特征在于,包括以下工艺步骤:步骤一:一次脱卤
将氮化物前驱体置于脱卤液中,通过搅拌促进卤素离子的脱除,得到一次脱卤料浆;
步骤二:二次脱卤
将一次脱卤料浆泵入超声‑超细球磨一体化装置中,在超声‑超细球磨协同作用下强化脱卤,得到二次脱卤料浆;
步骤三:过滤
将二次脱卤料浆泵入过滤器中进行过滤,滤液为脱卤液,滤饼为氮化物前驱体;
步骤四:焙烧
将步骤三所得氮化物前驱体置于真空炉中进行焙烧,即得到脱卤后的氮化物前驱体。
4.根据权利要求2或3所述的一种用于氮化物前躯体的脱卤方法,其特征在于:所述脱卤液与氮化物前驱体的质量比为2:1 50:1。
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5.根据权利要求3所述的一种用于氮化物前躯体的脱卤方法,其特征在于:步骤一中搅拌脱卤过程的时长为10 60min,且步骤一至步骤三的操作过程在‑60 ‑35℃的温度下进行。
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6.根据权利要求3所述的一种用于氮化物前躯体的脱卤方法,其特征在于:步骤二中超声频率为20 60kHZ,超细球磨采用粒径为0.05 1mm的氮化硅球为介质,氮化硅球与氮化物~ ~前驱体的质量比为3:1 30:1;所述超声‑超细球磨过程的时长为30 120min。
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7.根据权利要求3所述的一种用于氮化物前躯体的脱卤方法,其特征在于:步骤四中焙烧过程在炉体转速为1 20r/min、真空度为0.001 1Pa的条件下进行;所述焙烧温度为200~ ~ ~
1000℃,升温速率为1 10℃/min,焙烧时间为30 120min。
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