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专利号: 202110514590X
申请人: 长春理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2024-02-28
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种双波长涡旋光激光器,其特征在于,包括沿光传播方向依次设置的泵浦源、准直透镜、圆环达曼光栅、聚焦透镜、全反镜、第一增益介质、输入镜、第二增益介质和输出镜;

所述全反镜、所述第一增益介质和所述输出镜共同构成主谐振腔,所述主谐振腔能够产生第一预设波长涡旋光;

所述输入镜、所述第二增益介质和所述输出镜共同构成次谐振腔,所述次谐振腔能够产生第二预设波长涡旋光。

2.根据权利要求1所述的双波长涡旋光激光器,其特征在于,所述泵浦源为808nm光纤耦合半导体激光器,泵浦方式为端面泵浦。

3.根据权利要求2所述的双波长涡旋光激光器,其特征在于,所述第一增益介质为Nd:GdVO4晶体;所述第二增益介质为Yb:YAG晶体。

4.根据权利要求3所述的双波长涡旋光激光器,其特征在于,所述Nd:GdVO4晶体的前表面镀有808nm和912nm的增透膜,所述Nd:GdVO4晶体的后表面镀有912nm的增透膜和808nm的高反膜;所述Yb:YAG晶体的两个通光面上镀有912nm和1030nm的增透膜。

5.根据权利要求3所述的双波长涡旋光激光器,其特征在于,所述全反镜的两面均镀有808nm、1063nm和1341nm的增透膜,且其凹面镀有912nm的高反膜;

所述输入镜的两面均镀有912nm的增透膜,且其凹面镀有1030nm的全反膜;

所述输出镜允许至少一部分912nm和1030nm的涡旋光透过。

6.根据权利要求2所述的双波长涡旋光激光器,其特征在于,所述第一增益介质为Nd:YAG晶体,所述第二增益介质为Yb:YAG晶体。

7.根据权利要求6所述的双波长涡旋光激光器,其特征在于,所述Nd:YAG晶体的前表面镀有808nm和946nm的增透膜,所述Nd:YAG晶体的后表面镀有946nm的增透膜和808nm的高反膜;所述Yb:YAG晶体的两个通光面上镀有946nm和1030nm的增透膜。

8.根据权利要求6所述的双波长涡旋光激光器,其特征在于,所述全反镜的两面均镀有808nm、1064nm和1319nnm的增透膜,且其凹面镀有946nm的高反膜;

所述输入镜的两面均镀有946nm的增透膜,且其凹面镀有1030nm的全反膜;

所述输出镜允许至少一部分946nm和1030nm的涡旋光透过。

9.根据权利要求1所述的双波长涡旋光激光器,其特征在于,所述第一增益介质和所述第二增益介质均安装在晶体夹中,所述晶体夹采用紫铜材质,所述晶体夹通过水冷装置进行温度控制。

10.根据权利要求1~9任一所述的双波长涡旋光激光器,其特征在于,所述圆环达曼光栅为一阶圆环达曼光栅。