1.一种晶圆清洁装置，其特征在于：包括底座以及清洁机构，所述清洁机构设置为两个，两个所述清洁机构对称设置于所述底座上；

所述清洁机构包括支撑架、清洁吸盘、连通切换组件以及升降组件；

所述清洁吸盘通过连通切换组件设置在所述支撑架上，所述清洁吸盘数量设置为多个；

所述连通切换组件设置在支撑架上，所述连通切换组件包括连通主管以及切换阀组，所述清洁吸盘上设置有与所述连通主管连通的连通口，所述切换阀组设置在所述连通主管上，所述连通主管上形成有气路接口以及液路接口，所述切换阀组用于控制连通主管在第一连通状态和第二连通状态切换，所述第一连通状态时，所述连通主管和气路接口导通同时所述连通主管和液路接口截止，所述第二连通状态时，所述连通主管和液路接口导通同时所述连通主管和气路接口截止；所述气路接口连接有抽吸气泵，所述抽吸气泵工作时通过连通口吸入气体，所述液路接口连接有清洗液泵，所述清洗液泵工作时通过连通口喷出洗液；

所述升降组件设置在所述支撑架上，所述升降组件包括升降轨道以及升降执行件，所述连通切换组件设置于所述升降轨道上，所述升降执行件用于带动所述连通切换组件在所述升降轨道上移动，所述升降轨道的两端形成第一位置和第二位置；

当两个连通切换组件分别位于对应的升降轨道的第一位置时，连通切换组件之间形成具有第一距离值的清洁间隙；当两个连通切换组件分别位于对应的升降轨道的第二位置时，连通切换组件之间形成具有第二距离值的定位间隙，所述第一距离值大于第二距离值。

2.如权利要求1所述的一种晶圆清洁装置，其特征在于：还包括翻转机构，所述翻转机构连接于所述支撑架和底座之间，所述翻转机构用于带动支撑架转动以使所述支撑架在水平状态和竖直状态之间切换。

3.如权利要求2所述的一种晶圆清洁装置，其特征在于：位于不同清洁机构的清洁吸盘相错设置。

4.如权利要求1所述的一种晶圆清洁装置，其特征在于：所述连通口处设置有文丘里管。

5.如权利要求1所述的一种晶圆清洁装置，其特征在于：所述底座上形成有容置槽。

6.如权利要求1所述的一种晶圆清洁装置，其特征在于：所述升降轨道包括设置在支撑架上的若干轨道翼板，所述轨道翼板上设置有让位滑轨，所述连通主管依次穿设于所述让位滑轨上，所述让位滑轨的延伸方向向底座方向倾斜设置。

7.一种晶圆清洁方法，其特征在于：提供如权利要求1的一种晶圆清洁装置，具体包括以下步骤：第一固定步骤，将晶圆放置在第一侧的支撑架上，控制第一侧的切换阀组工作于第一连通状态，同时控制第一侧的抽吸气泵工作以使清洗吸盘和晶圆之间产生保持力；

第一清洗步骤，控制第一侧和第二侧的升降机构同时工作以使连通切换组件形成所述清洁间隙，控制第二侧的切换阀组工作于第二连通状态，同时控制第二侧的清洗液泵工作以清洗晶圆面向第二侧的表面，经过预设的第一清洗时间后停止清洗液泵的工作；

第一吸干步骤，控制第二侧的切换阀组工作于第一连通状态，同时控制第二侧的抽吸气泵工作以干燥晶圆看向第二侧的表面，经过预设的第一干燥时间后停止抽吸气泵的工作；

第二固定步骤，控制第一侧和第二侧的升降机构同时工作以使连通切换组件形成所述定位间隙，控制第二侧的抽吸气泵工作以使第二侧的清洗吸盘和晶圆之间产生保持力，同时通过停止第一侧的抽吸气泵的工作以使第一侧的清洗吸盘和晶圆之间放松；

第二清洗步骤，控制第一侧和第二侧的升降机构同时工作以使连通切换组件形成所述清洁间隙，控制第一侧的切换阀组工作于第二连通状态，同时控制第一侧的清洗液泵工作以清洗晶圆面向第一侧的表面，经过预设的第二清洗时间后停止清洗液泵的工作；

第二吸干步骤，控制第一侧的切换阀组工作于第一连通状态，同时控制第一侧的抽吸气泵工作以干燥晶圆看向第一侧的表面，经过预设的第二干燥时间后停止抽吸气泵的工作。

8.如权利要求7所述的一种晶圆清洁方法，其特征在于：还提供翻转机构，所述翻转机构连接于所述支撑架和底座之间，所述翻转机构用于带动支撑架转动以使所述支撑架在水平状态和竖直状态之间切换；

所述第一固定步骤还包括控制第一侧的翻转机构工作将所述支撑架转动至水平状态等待晶圆固定完成后控制第一侧的翻转机构工作将所述支撑架转动至竖直状态；

所述第二吸干步骤还包括在第二干燥时间后，控制第二侧的翻转机构工作将支撑架转动至水平状态。

9.如权利要求7所述的一种晶圆清洁方法，其特征在于：所述第一清洗步骤中和第二清洗步骤中清洗洗液为弱碱性的去离子水，所述弱碱性的去离子水的PH值为7‑9。

10.如权利要求7所述的一种晶圆清洁方法，其特征在于：所述第一清洗步骤中和第二清洗步骤中清洗洗液为弱碱性的去离子水弱酸性的去离子水，所述弱酸性的去离子水的PH值为5‑7。