1.一种低Gd含量的Mg‑Gd合金，其特征在于，包含以下质量百分比的化学成分：Gd：2~

5%，Li：2 5%，Y：1 3%，Nd：1 2%，Zr：0.2 0.6%，余量为镁和不可避免的杂质。

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2.根据权利要求1所述低Gd含量的Mg‑Gd合金，其特征在于，所述Li的质量百分比为2~

3%。

3.根据权利要求1所述低Gd含量的Mg‑Gd合金，其特征在于，所述Li与Gd的原子比大于

10:1。

4.一种低Gd含量Mg‑Gd合金的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、按照如权利要求1‑3任一项所述的低Gd含量的Mg‑Gd合金的配比进行备料；

S2、在SF6 + CO2气体保护下，在电阻炉中将合金材料熔化后精炼2~4 min，再在电阻炉内静置25 30 min后浇铸到金属模具中获得铸件。

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5.根据权利要求4所述低Gd含量的Mg‑Gd合金的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述合金材料为Mg‑20Gd中间合金、Mg‑20Y中间合金、Mg‑10Li中间合金、Mg‑20Nd中间合金和Mg‑

30Zr中间合金。

6.一种低Gd含量Mg‑Gd合金的热处理方法，其特征在于，将权利要求4制备的铸件放入坩埚中，将坩埚放入马弗炉中升温至480 500 ℃后进行保温处理，保温时间2 4 h；其中，升~ ~

温速率为1 2 ℃/min；保温完成后取出所述坩埚立刻在水中淬火，完成热处理。

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7.根据权利要求6所述低Gd含量的Mg‑Gd合金的热处理方法，其特征在于，将所述铸件用石墨包埋后放入坩埚中。