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专利号: 2021107344467
申请人: 杭州电子科技大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于,该方法具体包括以下步骤:

步骤一:采用旋涂法制备CsPbBr3钙钛矿薄膜;

用丙酮、乙醇和去离子水依次对衬底进行超声波清洗;

将PbBr2和N,N‑二甲基甲酰胺混合溶液以2000‑3500rpm的转速旋涂在衬底表面30‑40秒,衬底表面生成第一层膜;其中混合溶液中PbBr2的含量为1‑1.5M;

将PbBr2和N,N‑二甲基甲酰胺混合溶液以3500‑4000rpm的转速旋涂在第一层膜上20‑30秒,其中混合溶液中PbBr2的含量为0.8‑1M;

将制备好的膜浸于CsBr和甲醇的混合溶液中10‑15分钟,用异丙醇漂洗,在空气中旋转干燥,在热板上加热至200~250℃,保持5‑8分钟,形成CsPbBr3薄膜层;其中CsBr和甲醇的混合溶液中CsBr的浓度为0.07‑0.09M;

步骤二:将步骤一得到的CsPbBr3薄膜层放入压印腔内的样品台上,将压印腔抽真空至‑5

(1~5)*10 Pa;将CsPbBr3薄膜层加热到在30‑60摄氏度,通过移动活动压柱及施加压力到CsPbBr3薄膜层上;压力范围为20000‑45000牛顿;压印时间为10‑20分钟;

步骤三:将CsPbBr3薄膜层降温到常温后,取出,获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:所述的PbBr2和N,N‑二甲基甲酰胺混合溶液中PbBr2的含量为1.3M。

3.根据权利要求1所述的一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:所述的CsBr和甲醇的混合溶液中CsBr的浓度为0.08M。

4.根据权利要求1所述的一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:压‑5

印腔抽真空度为3*10 Pa。

5.根据权利要求1所述的一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:活动压柱的压力为32000牛顿。

6.根据权利要求1所述的一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法,其特征在于:所述的衬底为玻璃衬底。