1.一种多晶硅电池片链式背抛光设备，其特征在于：包括机架(1)、集水槽(2)、辅助输送辊(3)、水喷淋板(4)、除湿输送辊(5)、吸湿护套(6)、第一反应液槽(7)、带液输送辊(8)、带液凹槽(9)、第二反应液槽(10)、抛光输送辊(11)、抛光凹槽(12)、水洗槽(13)、水洗输送网(14)、下水洗辊(15)、上水洗辊(16)、喷水孔(17)和烘干机构(18)，所述机架(1)左侧设置有集水槽(2)，所述集水槽(2)上方设置有若干辅助输送辊(3)，所述辅助输送辊(3)的正上方平行设置有水喷淋板(4)，所述辅助输送辊(3)的右侧设置有除湿输送辊(5)，所述除湿输送辊(5)上可拆卸设置有吸湿护套(6)，所述集水槽(2)的右侧设置有第一反应液槽(7)，所述第一反应液槽(7)内设置有若干顶部与液面平齐的带液输送辊(8)，所述带液输送辊(8)上分布有若干带液凹槽(9)，所述第一反应液槽(7)的右侧设置有第二反应液槽(10)，所述第二反应液槽(10)内设置有若干顶部与液面平齐的抛光输送辊(11)，所述抛光输送辊(11)上分布有若干抛光凹槽(12)，所述第二反应槽的右侧设置有水洗槽(13)，所述水洗槽(13)内设置有水洗输送网(14)，所述水洗输送网(14)上下对称设置有下水洗辊(15)和上水洗辊(16)，所述上水洗辊(16)和下水洗辊(15)的圆周面上均匀设置有若干与水泵相连的喷水孔(17)，所述水洗输送网(14)的后段设置有烘干机构(18)。

2.如权利要求1所述的一种多晶硅电池片链式背抛光设备，其特征在于：所述第一反应液槽(7)为氢氟酸硝酸混合液反应液槽，所述第二反应液槽(10)为碱液蚀刻反应液槽。

3.如权利要求1所述的一种多晶硅电池片链式背抛光设备，其特征在于：所述辅助输送辊(3)、除湿输送辊(5)、带液输送辊(8)和抛光输送辊(11)互相平行均位于同一水平面上。

4.如权利要求1所述的一种多晶硅电池片链式背抛光设备，其特征在于：所述集水槽(2)、第一反应液槽(7)、第二反应液槽(10)和水洗槽(13)之间均设置有除湿输送辊(5)进行输送。

5.如权利要求1所述的一种多晶硅电池片链式背抛光设备，其特征在于：所述抛光输送辊(11)的上方对称挤压设置有挤压限位辊(19)，所述挤压限位辊(19)的外表面套设有弹性挤压套。

6.如权利要求1所述的一种多晶硅电池片链式背抛光设备，其特征在于：所述带液凹槽(9)的深度为0.2mm，带液凹槽(9)的宽度25mm，所述带液凹槽(9)均匀轴向分布在带液输送辊(8)上。

7.如权利要求1所述的一种多晶硅电池片链式背抛光设备，其特征在于：所述抛光凹槽(12)的深度为1mm，抛光凹槽(12)的宽度0.3mm，所述抛光凹槽(12)均匀轴向分布在抛光输送辊(11)上。

8.如权利要求1所述的一种多晶硅电池片链式背抛光设备，其特征在于：所述水洗输送网(14)斜右上方设置，所述烘干机构(18)包括热风机(20)和抽风机(21)，所述水洗输送网(14)上方均匀分布有多个热风机(20)，所述水洗网的下方均匀分布有多个抽风机(21)。