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专利号: 2021112172193
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 磨削;抛光
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种光悬浮抛光装置,其特征在于,抛光装置包括工控机(1)、半导体激光发生器(2)、反射棱镜(3)、压电陶瓷(4)、工作容器(5)及工件装夹装置(6);所述半导体激光发生器(2)与工控机(1)电信号连接,所述反射棱镜(3)设置在半导体激光发生器(2)一侧,且反射棱镜(3)位于工作容器(5)的下方位置处,所述反射棱镜(3)倾斜45°放置;所述工件装夹装置(6)设置在工作容器(5)上方位置处,所述工作容器(5)内部底面设置磨粒放置台(8),所述磨粒放置台(8)上表面采用凹型面,磨粒放置台(8)上铺设磨粒;所述压电陶瓷(4)设置在工作容器(5)底部;

抛光方法包括如下步骤:

1)装夹工件,并通过工件装夹装置将工件移动至容器中心正上方;

2)放置磨粒,并调整激光功率,开启半导体激光发生器,水平激光通过45°放置的反射棱镜,反射后,竖直照射在磨粒上;

3)压电陶瓷短促震荡,给磨粒一个向上作用力,同时激光将磨粒托起,冲击工件表面进行抛光;

4)工件在工件装夹装置作用下绕轴旋转并可水平、竖直移动以完成工件整个表面的加工。

2.根据权利要求1所述的一种光悬浮抛光装置的光悬浮抛光方法,其特征在于,所述工件装夹装置(6)能够带动工件(7)进行水平、竖直方向的移动及绕轴转动动作。

3.根据权利要求1所述的一种光悬浮抛光装置的光悬浮抛光方法,其特征在于,所述反射棱镜(3)的反射中心与磨粒放置台(8)的中心位于同一直线上。

4.根据权利要求1所述的一种光悬浮抛光装置的光悬浮抛光方法,其特征在于,所述半导体激光发生器(2)的发射头水平放置,并指向反射棱镜(3)。