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专利号: 2021113345236
申请人: 西安邮电大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 光学
更新日期:2023-11-20
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种基于SOI的对角刻蚀亚波长光栅型片上偏振旋转器,其特征在于,所述偏振旋转器包括:衬底(1);

所述衬底(1)的顶部设置有一段条形波导(2),形成偏振旋转区域;

沿着入射光的传输方向,所述条形波导(2)的其中一组对角上分别开有若干个第一凹槽(3)和若干个第二凹槽(4),形成第一亚波长光栅和第二亚波长光栅;

所述若干个第一凹槽(3)和第二凹槽(4)内均填充有二氧化硅。

2.根据权利要求1所述的一种基于SOI的对角刻蚀亚波长光栅型片上偏振旋转器,其特征在于,所述衬底(1)为二氧化硅衬底;

所述条形波导(2)为硅波导。

3.根据权利要求1所述的一种基于SOI的对角刻蚀亚波长光栅型片上偏振旋转器,其特征在于,所述条形波导(2)的周围包覆有二氧化硅层(5)。

4.根据权利要求2所述的一种基于SOI的对角刻蚀亚波长光栅型片上偏振旋转器,其特征在于,所述衬底(1)的厚度为2μm。

5.根据权利要求1所述的一种基于SOI的对角刻蚀亚波长光栅型片上偏振旋转器,其特征在于,所述条形波导(2)的厚度H=400nm,宽度W=400nm,长度LC=5.75μm。

6.根据权利要求1所述的一种基于SOI的对角刻蚀亚波长光栅型片上偏振旋转器,其特征在于,所述第一凹槽(3)和所述第二凹槽(4)个数相同。

7.根据权利要求5所述的一种基于SOI的对角刻蚀亚波长光栅型片上偏振旋转器,其特征在于,所述第一凹槽(3)的长度为WA=210~290nm,所述第一凹槽(4)的高度为HA=135~

165nm,所述第二凹槽(4)的长度为WB=135~165nm,所述第二凹槽(4)的高度为HB=210~

290nm。

8.根据权利要求7所述的一种基于SOI的对角刻蚀亚波长光栅型片上偏振旋转器,其特征在于,

所述第一凹槽(3)和所述第二凹槽(4)的宽度均为a=95~130nm;

相邻所述第一凹槽(3)之间的距离和相邻所述第二凹槽(4)之间均为Λ=95~130nm。