1.一种宽带光干涉的微观形貌测量装置和方法，其特征在于包括以下步骤：步骤1：根据本发明设计微观形貌测量装置，测量装置具体使用流程是通过1显微镜照明光源发出宽带光，宽带光经过2聚光镜、3孔径光阑、4准直扩束镜后以平行光的形式出射，经5分光棱镜后，一束宽带光分成两束光，一束光经6被测物表面反射，另一束光经7参考镜反射，用8压电陶瓷驱动器调节两束光的光程差，通过9显微物镜会聚至10接收装置CCD的靶面上，记录显微视场的宽带光干涉条纹；

步骤2：利用压电陶瓷驱动器产生微小位移，并记录产生随机相移值 的多幅宽带光干涉图，根据照明光源发出宽带光的光谱特性，相干长度、条纹对比度及包络曲线，得出其光强值表达式：

（1）

其中， 是背景光，M是移项图的序数， 是包络曲线的振幅值， 是光谱密度宽度，是中心波长， 是每幅移项干涉图的相移值， 是面形高度分布；

步骤3：重组干涉图，将每一幅随机移相宽带光干涉图重组成行向量，然后将这N幅移相干涉图的行向量按照列组合成如下的p矩阵： ，其中每一行都是每一幅移相干涉图重组得到的一维数据，其长度为 ， 和 分别为移相干涉图x轴和y轴所占的像素点数，T代表矩阵的转置；

步骤4：获得背景分量 ，矩阵 具有和矩阵p同样的维度，而矩阵 中所有元素的值均一致，其是矩阵p中所有元素的平均值；

步骤5：通过矩阵p和矩阵 计算得到协方差矩阵 ，其中上标T表示矩阵转置；

步骤6：协方差矩阵C可以如下式实现对角化： ，矩阵D为对角化协方差矩阵而矩阵U是一个正交变换的矩阵，其大小都为 ；

步骤7：主成分分量K可以由矩阵U，矩阵p和矩阵 得到：  ，其中，矩阵K的第一列和第二列便分别代表了主成分的正交特征值，其分别为 和 ；

步骤8：通过反正切函数求解压包相位： ；

步骤9：通过相位解包算法以及中心波长值 中恢复出测量的面形高度值。