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专利号: 2021113891470
申请人: 天津理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 晶体生长〔3〕
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种Ti掺杂单层二硫化钼单晶的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)准备一两端敞口的石英管,所述石英管的两端分别为原料端和基底端,在所述石英管的基底端内放置一基底,在所述石英管的原料端内放置原材料和输运剂,对所述石英管‑6 ‑3抽真空,密封所述石英管,以使该石英管的管内压强为10 10 Pa,其中,所述原材料为2.3~~2.5质量份数的MoO3、0.36~0.42质量份数的S粉和0.35质量份数的TiO2,所述输运剂为单质碘;

2)对所述石英管的原料端和基底端同时加热0.5 1h,冷却至室温20 25℃,在基底上得~ ~到Ti掺杂单层二硫化钼单晶,其中,所述原料端的加热温度为750 900℃,所述基底端的加~热温度为400 700℃。

~

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤1)中,所述基底为云母或石墨。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤1)中,所述石英管的长度为15 40 cm,内径为10‑20mm。

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4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤1)中,按质量份数计,所述原材料和输运剂的比为(2 6):(3‑8)。

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5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤2)中,加热至750 900℃的~升温速率为25 50℃/min,加热至400 700℃的升温速率为25 50℃/min。

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6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤2)中,所述原料端和基底端之间温度的梯度为3 30℃/cm。

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7.如权利要求1 6中任意一项所述制备方法获得的Ti掺杂单层二硫化钼单晶。

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8.如权利要求1 6中任意一项所述制备方法在同时实现单层二硫化钼光致发光增强和~单层二硫化钼单晶制备中的应用。