1.一种高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂的制备方法，其特征在于包括以下步骤：（1）将钼源加到蒸馏水中，搅拌形成透明的钼源溶液；

（2）将(NH4) 2S溶液加入钼源溶液中，盖好反应容器，将混合物放在60～100℃油浴锅中反应3～6天；

（3）反应结束后，将产物冷却至室温，用离心机进行离心过滤，用盐酸、氢氧化钠溶液、蒸馏水、乙醇对产品进行清洗；

（4）将清洗后的产品在干燥后得到橙色粉末状MoS3催化剂；

所述步骤（1）中钼源为(NH4)6Mo7O24.4H2O或者Na2MoO4·2H2O，钼源溶液的质量浓度为5%～30%；

所述步骤（2）中(NH4) 2S溶液的质量分数为25%；

所述步骤（2）中(NH4) 2S溶液以5～10mL/min的速率加入钼源溶液中；

所述步骤（2）中钼源与硫化铵的质量比为1:5～1:30；

所述步骤（2）反应时的搅拌速率为0～10r/min。

2.根据权利要求1所述的高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）中离心转速为6000～8000r/min；盐酸浓度为0.1～2mol/L，氢氧化钠溶液浓度为

0.1～2mol/L。

3.根据权利要求1所述的高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂的制备方法，其特征在于：所述步骤（4）中的干燥温度为60～120℃，干燥时间为12～24h。

4.根据权利要求1‑3任一所述的制备方法制得的高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂。

5.根据权利要求4所述的高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂在芬顿去除有机污染物领域中的应用，其特征在于：MoS3作为助催化剂在Fenton反应中显著提高H2O2的分解效率，在

1min内，5mg MoS3可以将100mL浓度为10mg/L的盐酸四环素降解完。