1.一种Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：制备含TiB2纳米颗粒的NaCl和KCl固态混合盐：将NaCl和KCl固体无机盐混合，球磨至微米级后，在球磨好的混合盐中加入重量为混合盐总重量40％～60％的平均粒径为30～100nm的TiB2颗粒，再加入丙酮液体并超声分散，然后在真空干燥箱内抽真空加热，即得含TiB2纳米颗粒的NaCl和KCl固态混合盐；

S2：无机熔盐电泳电化学共沉积制备Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层：将NaCl/KCl/AlCl3或NaCl/KCl/AlF3固体无机盐在惰性气体下加热到700℃～900℃熔融，将步骤S1中得到的含TiB2纳米颗粒的NaCl和KCl固态混合盐与MoO3粉先后加入熔融NaCl/KCl/AlCl3或NaCl/KCl/AlF3盐中，形成含有钼离子以及纳米TiB2的无机熔盐，稳定后，将石墨阳极和待沉积阴极插入坩埚中，通电后同时进行钼离子的电化学沉积与纳米TiB2电泳沉积，阴极沉积的钼原子与纳米TiB2反应后即可得到Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层。

2.如权利要求1所述的一种Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中NaCl和KCl固体无机盐的摩尔比为1:1。

3.如权利要求1所述的一种Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中真空加热参数为：加热温度为150～180℃，真空度为30～60Pa，处理时间为1～

1.5h。

4.如权利要求1所述的一种Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中NaCl/KCl/AlCl3固体无机盐中各组元的摩尔比为1:1:0.5～1，NaCl/KCl/AlF3固体无机盐中各组元的摩尔比为1:1:0.2～0.5。

5.如权利要求1所述的一种Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中钼离子以及纳米TiB2的无机熔盐中TiB2浓度为10～90g/L、钼离子浓度为0.1～

0.8mol/L，MoO3粉纯度为分析纯。

6.如权利要求1所述的一种Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中待沉积阴极的材料为石墨、不锈钢、碳素钢、钛及钛合金与钼及钼合金材料中的任意一种。

7.如权利要求1所述的一种Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中熔盐电泳电化学共沉积电压为0.8～1.5V。

8.一种采用如权利要求1～7任一项所述的制备方法制得的Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层。

9.如权利要求8所述的一种Ti‑Mo‑B系三元硼化物涂层，其特征在于，所述Ti‑Mo‑B系三元硼化物化学式为TixMo1‑xB2，其中0.2≤x≤0.8。