1.一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统，其特征在于，包括依次共轴设置第二反射镜(12)、第三分光镜(10)、第一分光镜(3)、第二分光镜(4)、双波长光子筛(5)、掩膜(6)和硅片(7)；

所述第一分光镜(3)一侧依次共轴设有对准光源(1)和第一准直透镜(2)，且所述第一准直透镜(2)邻近第一分光镜(3)；

所述第二分光镜(4)一侧依次共轴设有曝光光源(8)和第二准直透镜(9)，且所述第二准直透镜(9)邻近第二分光镜(4)；

所述第三分光镜(10)相对的两侧分别设有第一反射镜(11)和CCD相机(13)。

2.根据权利要求1所述的基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统，其特征在于，所述第三分光镜(10)和第一反射镜(11)之间的间距与第三分光镜(10)和第二反射镜(12)之间的间距不相等。

3.根据权利要求1所述的基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统，其特征在于，所述双波长光子筛(5)上设有第一区域和第二区域，所述第一区域和第二区域内的孔径大小和小孔数量均不相同。

4.根据权利要求1‑3任一所述的基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统，其特征在于，所述对准光源(1)和第一准直透镜(2)之间的对准光路、曝光光源(8)和第二准直透镜(9)之间的曝光光路均与第二反射镜(12)和硅片(7)之间的反射光路垂直。