1.一种可控温度和压力的化工反应釜，其特征在于：包括筒体(1)、控压机构(2)；

筒体(1)：其上端开口处放置有筒盖(3)，筒盖(3)的内部设置有内盖(4)，内盖(4)的外弧面与筒体(1)的上端开口内壁接触，筒体(1)的下端出料口处设置有出料管(16)；

控压机构(2)：与内盖(4)中心处设置的滑孔滑动连接；

其中：所述筒体(1)壁体的下端空腔内部设置有电热丝(7)，筒体(1)的下端均匀设置有与电热丝(7)对应的散热孔(8)，电热丝(7)的输入端与筒体(1)外弧面下端设置的PLC控制器(17)输出端电连接，PLC控制器(17)的输入端电连接外部电源。

2.根据权利要求1所述的一种可控温度和压力的化工反应釜，其特征在于：所述控压机构(2)包括套筒(23)和密封盖(24)，所述套筒(23)滑动连接于内盖(4)中心处设置的滑孔内部，套筒(23)的下端设置有密封盖(24)。

3.根据权利要求2所述的一种可控温度和压力的化工反应釜，其特征在于：所述筒盖(3)的上表面设置有电机(5)，电机(5)的输出轴穿过筒盖(3)中心处的圆孔并在端头处设置有转轴(6)，转轴(6)的上端设置有螺纹，转轴(6)上端的螺纹与套筒(23)上端转动连接的内螺纹筒(21)螺纹连接，套筒(23)的上表面边缘处均匀设置有电磁铁(22)，电磁铁(22)和电机(5)的输入端均电连接PLC控制器(17)的输出端。

4.根据权利要求3所述的一种可控温度和压力的化工反应釜，其特征在于：所述密封盖(24)的外弧面设置有与筒体(1)内壁接触的密封圈(14)，密封盖(24)的中部圆孔内部设置有与转轴(6)外弧面接触的密封环(15)。

5.根据权利要求1所述的一种可控温度和压力的化工反应釜，其特征在于：还包括温度传感器(11)和压力传感器(12)，所述温度传感器(11)和压力传感器(12)分别设置于筒体(1)壁体中部对称设置的安装孔内部，温度传感器(11)和压力传感器(12)的感应端均位于筒体(1)的内部，温度传感器(11)和压力传感器(12)的输出端均电连接PLC控制器(17)的输入端。

6.根据权利要求1所述的一种可控温度和压力的化工反应釜，其特征在于：所述筒盖(3)外侧面下端均匀设置有限位卡块(31)，筒体(1)的外侧面上端均匀设置有与限位卡块(31)配合的卡条。

7.根据权利要求1所述的一种可控温度和压力的化工反应釜，其特征在于：所述筒体(1)壁体的中部空腔内壁均匀设置有半导体制冷片(9)，筒体(1)的外弧面中部均匀设置有与筒体(1)壁体中部空腔内部连通的散热槽(10)。

8.根据权利要求4所述的一种可控温度和压力的化工反应釜，其特征在于：所述转轴(6)的下端均匀设置有搅拌片(13)。