1.一种水性皮革生产用抛光设备，包括桌板(1)，其特征在于：所述桌板(1)下方连接设有支撑柱(2)，所述桌板(1)上方连接设有抛光台(3)，所述桌板(1)上环绕抛光台(3)滑动连接设有若干压紧机构，所述桌板(1)上于抛光台(3)上方连接设有抛光架(4)，所述抛光架(4)顶部设有通槽(5)，所述通槽(5)内连接设有移动机构，所述移动机构于抛光架(4)下方连接设有电动机(6)，所述电动机(6)动力输出端连接设有抛光装置。

2.根据权利要求1所述的一种水性皮革生产用抛光设备，其特征在于：所述桌板(1)四角环绕抛光台(3)连接设有固定块(7)。

3.根据权利要求1所述的一种水性皮革生产用抛光设备，其特征在于：所述压紧机构包括滑座(8)，所述滑座(8)滑动连接于桌板(1)上，所述滑座(8)上方连接设有立杆(9)，所述立杆(9)顶部连接设有横板(10)，所述横板(10)远离立杆(9)一端设有螺孔，所述螺孔内螺纹连接设有螺杆(11)，所述螺杆(11)顶部于横板(10)上方连接设有转把(12)，所述螺杆(11)底部连接设有压紧板(13)。

4.根据权利要求1所述的一种水性皮革生产用抛光设备，其特征在于：所述移动机构包括移动杆(14)，所述移动杆(14)顶部于抛光架(4)上方连接设有移动把(15)，所述移动杆(14)底部与电动机(6)连接。

5.根据权利要求4所述的一种水性皮革生产用抛光设备，其特征在于：所述移动把(15)下方转动连接设有滚轮(16)，所述滚轮(16)底部与抛光架(4)上表面接触。

6.根据权利要求1所述的一种水性皮革生产用抛光设备，其特征在于：所述抛光装置包括抛光盘(17)，所述抛光盘(17)下方连接设有打磨片(18)。

7.根据权利要求1所述的一种水性皮革生产用抛光设备，其特征在于：所述通槽(5)呈S形，规律分布于抛光架(4)顶部。