1.一种传感器单晶硅刻蚀设备，包括反应箱（1），其特征在于：所述反应箱（1）的底部两侧固定有底座（2），所述反应箱（1）的底部中间安装有电机（3），所述电机（3）的输出端连接有贯穿至反应箱（1）内部的转轴（4），所述转轴（4）的外表面套接有多个片板（5），多个所述片板（5）的顶部安装有拆卸网板（14），多个所述片板（5）之间固定有环形板（6），所述反应箱（1）的内部自上而下均开设有环形槽（13），所述反应箱（1）的两侧自上而下均安装有环形托架（7），多个所述环形托架（7）的顶部均安装有电磁线圈（8），所述反应箱（1）的顶部贯穿有多个分流管（10），多个所述分流管（10）的外表面均开设有喷气孔（12），多个所述分流管（10）的顶端均贯穿至反应箱（1）的顶部并连接有进气管（11），所述反应箱（1）的底部一侧贯穿有出气管（9）。

2.根据权利要求1所述的一种传感器单晶硅刻蚀设备，其特征在于：多个所述片板（5）共八个，分为四组，每组所述片板（5）的四周均通过环形板（6）与环形槽（13）滑动连接。

3.根据权利要求2所述的一种传感器单晶硅刻蚀设备，其特征在于：多个所述片板（5）均为网状结构，每组所述片板（5）之间的间距为10‑15cm。

4.根据权利要求1所述的一种传感器单晶硅刻蚀设备，其特征在于：多个所述分流管（10）的底端等距分布于片板（5）的上方。

5.根据权利要求1所述的一种传感器单晶硅刻蚀设备，其特征在于：所述进气管（11）和出气管（9）的直径相同，且所述进气管（11）和出气管（9）均采用PVC材料制作而成。