1.一种半导体片清洗设备，包括设备主体(1)，其特征在于：所述设备主体(1)的外侧设置有清洗箱(2)，所述清洗箱(2)一侧的底端设置有存储箱(3)，所述存储箱(3)的一端安装有制冷器(4)，所述存储箱(3)的顶部安装有气泵(5)，所述气泵(5)的输出端设置有导气管(6)，所述清洗箱(2)的内部均匀设置有多组通气管(7)，所述通气管(7)的数目为十六组，其中十组所述通气管(7)的两侧皆设置有第一喷气端(9)，剩余六组所述通气管(7)的一侧皆设置有第二喷气端(10)，所述第一喷气端(9)和第二喷气端(10)的内部远离通气管(7)的一侧皆设置有增压端(11)，所述增压端(11)远离通气管(7)的一侧皆设置有喷气口(12)，每组所述通气管(7)相邻一侧的上方皆安装有电磁滑轨(13)，所述电磁滑轨(13)的底部皆活动安装有电动推杆(15)，所述电动推杆(15)的顶部皆设置有与电磁滑轨(13)相匹配的滑动块(14)，所述电动推杆(15)的底部皆设置有机械爪(16)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体片清洗设备，其特征在于：所述存储箱(3)内部的底端填充有冷却水，且冷却水的含量占存储箱(3)内部空间的三分之一，所述气泵(5)的输出端位于冷却水的上方。

3.根据权利要求1所述的一种半导体片清洗设备，其特征在于：每组所述增压端(11)内部高度从靠近通气管(7)的一侧到远离通气管(7)的一侧依次递减。

4.根据权利要求1所述的一种半导体片清洗设备，其特征在于：所述通气管(7)远离导气管(6)的一端皆设置有对接块(8)，所述通气管(7)皆通过对接块(8)分别与清洗箱(2)固定连接。

5.根据权利要求1所述的一种半导体片清洗设备，其特征在于：每组所述通气管(7)的一端皆与导气管(6)的输出端连通。

6.根据权利要求1所述的一种半导体片清洗设备，其特征在于：所述存储箱(3)远离设备主体(1)一侧的顶端设置有贯穿至其内部一侧的通气孔。