1.一种玻璃反应釜用清洗装置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)上设置有升降机构(2)，所述升降机构(2)上设置有安装座(3)，所述安装座(3)上设置有清洗调节机构，所述清洗调节机构包括电机(4)、安装轴(6)、调节杆(7)、安装件(8)、限位件(11)、第一滑轨(5)、第二滑轨(12)和第三滑轨(13)，所述安装座(3)的底部从外至内依次设置有第一滑轨(5)、第二滑轨(12)和第三滑轨(13)，所述安装座(3)上设置有电机(4)，所述电机(4)上传动连接有安装轴(6)，所述安装轴(6)上设置有调节杆(7)，所述调节杆(7)的一端设置有安装件(8)，所述调节杆(7)上设置有伸缩杆(14)，所述第一滑轨(5)、第二滑轨(12)和第三滑轨(13)上均通过滑柱设置有限位件(11)。

2.根据权利要求1所述的一种玻璃反应釜用清洗装置，其特征在于，所述安装件(8)上开设有卡槽(801)，所述卡槽(801)的内部设置有两组磁条(802)，所述卡槽(801)上位于两组磁条(802)之间设置有刮片(9)。

3.根据权利要求1所述的一种玻璃反应釜用清洗装置，其特征在于，所述第一滑轨(5)的直径大于第二滑轨(12)，所述第二滑轨(12)的直径大于第三滑轨(13)。

4.根据权利要求1所述的一种玻璃反应釜用清洗装置，其特征在于，所述限位件(11)与伸缩杆(14)相匹配。

5.根据权利要求1所述的一种玻璃反应釜用清洗装置，其特征在于，所述底座(1)上设置有电源开关(10)，所述电源开关(10)的输出端分别与升降机构(2)和电机(4)的输入端电性连接。

6.根据权利要求1所述的一种玻璃反应釜用清洗装置，其特征在于，所述升降机构(2)为液压升降杆。