1.一种石墨烯转移方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
(1)将PLLA/PMMA共混物在氯仿中搅拌使其充分溶解,得到PLLA/PMMA共混物溶液;
(2)将生长在铜箔上的石墨烯剪成合适尺寸;
(3)将步骤1)PLLA/PMMA共混物溶液旋涂到生长在铜箔上的石墨烯表面,让溶剂自然挥发1~2天,再抽真空24H以上,得到复合物;
(4)将步骤3)得到的复合物采用电化学气泡法将铜箔刻蚀,得到与PLLA/PMMA共混物薄膜粘接的石墨烯;
(5)将步骤4)得到的与PLLA/PMMA共混物薄膜粘接的石墨烯依次转移到去离子水中、浓度为0.1mol/L盐酸溶液和去离子水中漂洗,以去除石墨烯薄膜上残留的氢氧化钠溶液,然后将薄膜转移至目标基底上并烘干;
(6)利用光学显微镜对转移至目标基底上的薄膜进行微观结构研究,并用显微热台对其进行热处理,然后将其放入N,N‑二甲基甲酰胺中刻蚀,刻蚀之后取出样品风干即可。
2.根据权利要求1所述的一种石墨烯转移方法,其特征在于步骤(1)中,所述共混物溶液的浓度为0.06g/ml。
3.根据权利要求1所述的一种石墨烯转移方法,其特征在于步骤(2)中,所述在铜箔上生长石墨烯的方法为化学气相沉积法。
4.根据权利要求1所述的一种石墨烯转移方法,其特征在于步骤(3)中,所述旋涂时旋涂仪功率设置为500r/min,时间为6s或功率设置为2000r/min,时间为20s。
5.根据权利要求1所述的一种石墨烯转移方法,其特征在于,步骤(4)中,所述电化学气泡法中铜箔作为阳极,镍箔作为阴极,电解质为氢氧化钠溶液,转移电压为3V。
6.根据权利要求5所述的一种石墨烯转移方法,其特征在于,所述氢氧化钠溶液的浓度为0.1mol/L。
7.根据权利要求1所述的一种石墨烯转移方法,其特征在于步骤(5)中,反复漂洗以去除与PLLA/PMMA共混物薄膜粘接的石墨烯上残留的氢氧化钠溶液。
8.根据权利要求1所述的一种石墨烯转移方法,其特征在于步骤(6)中,所述目标基底为石英片或硅片。
9.根据权利要求1所述的一种石墨烯转移方法,其特征在于步骤(6)中,所述烘干的温度为40℃,时间为2H以上。
10.根据权利要求1所述的一种石墨烯转移方法,其特征在于步骤(6)中,所述显微热台的升温速率为10℃/min,所述热处理时温度为180℃,保温时间为2‑5min。
11.根据权利要求1所述的一种石墨烯转移方法,其特征在于步骤(6)中,所述刻蚀时的温度为70‑100℃,时间为10‑30min。