1.本发明公开了一种MXene二维薄片膜缺陷修复的方法，该方法的原料是MXene、戊二酸，基膜是尼龙6；首先将MXene真空抽滤在基膜表面，再加入戊二酸进行真空抽滤，其中，MXene与戊二酸的质量比为8：1000 2000；通过多次真空抽滤，使负载于基膜上材料的厚度~

为8 10nm，然后在0.05 0.1MPa、70 80℃的条件下加热1 2h；加热完毕后，用玻璃棒或橡胶~ ~ ~ ~

棒在MXene表面自重作用下滚动4 5次，完成第一步修复；在已负载材料上，重复上述实验步~

骤4 8次，保证MXene二维薄片膜总的厚度在32 80nm之间，最后在0.05 0.1MPa、110 130℃~ ~ ~ ~

下干燥12 24h，即得缺陷修复后的MXene二维薄片膜。

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2.根据权利要求1所述的一种MXene二维薄片膜缺陷的修复方法，其特征在于MXene在真空抽滤成膜之前要在滤瓶中静置2 3min，其真空抽滤压力为0.05 0.1MPa，真空抽滤时间~ ~

为10 15min。

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3.根据权利要求1所述的一种MXene二维薄片膜缺陷的修复方法，其特征在于戊二酸在真空抽滤前需在滤瓶中静置10 20min，其真空抽滤压力为0.05 0.1MPa，真空抽滤时间为10~ ~

15min。

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4.根据权利要求1所述的一种MXene二维薄片膜缺陷的修复方法，其特征在于每次加热后的MXene二维薄片膜在进行后续制备操作前要冷却至常温。