1.一种球墨铸铁平台表面抛光处理系统，包括：

机架(1)，所述机架(1)的上端设置有工作台(2)，所述工作台(2)上安装有铸铁平台(3)；

抛光架(4)，所述抛光架(4)滑动连接在工作台(2)上方；

控制室(5)，所述控制室(5)活动连接在所述抛光架(4)的内侧，所述控制室(5)的一侧固连有存料盒(51)，所述存料盒(51)内存储有抛光剂；

驱动单元，所述驱动单元设置于所述抛光架(4)上，用以驱动所述抛光架(4)在所述工作台(2)上移动；

其特征在于，还包括：

第二伸缩杆(7)，所述第二伸缩杆(7)设置在所述控制室(5)的正下方；

抛光轮(71)，所述抛光轮(71)转动连接在所述第二伸缩杆(7)的下端；

安装槽(711)，所述安装槽(711)开设在所述抛光轮(71)的两侧；

抛光槽(712)，所述抛光轮(71)的外圈表面为抛光面并均匀开设有抛光槽(712)；

所述安装槽(711)与所述抛光槽(712)均沿所述抛光轮(71)的外圆周向分布，所述安装槽(711)与所述抛光槽(712)的位置一一对应并相通；

送料组件，所述送料组件设置于所述控制室(5)上，用以能够持续不断的进行抛光剂供应；

所述送料组件包括：

导管(713)，所述导管(713)设置在安装槽(711)的内侧，所述导管(713)与所述抛光槽(712)相邻一端开设有缺口；

伸缩软管(72)，所述伸缩软管(72)的上端与所述存料盒(51)固连，且所述伸缩软管(72)与所述存料盒(51)连通，所述抛光轮(71)内部开设有空腔，所述导管(713)通过空腔与所述伸缩软管(72)连通；

所述抛光架(4)包括：

滑轨(41)，所述滑轨(41)固连在所述抛光架(4)的上方内侧，所述滑轨(41)用以引导所述控制室(5)纵向移动；

滑槽(42)，所述滑槽(42)开设在工作台(2)的两侧，所述滑槽(42)用以引导所述抛光架(4)横向移动。

2.根据权利要求1所述的一种球墨铸铁平台表面抛光处理系统，其特征在于：所述控制室(5)包括：第一伸缩杆(6)，所述第一伸缩杆(6)固连在所述控制室(5)的右下角；

收集盒(61)，所述收集盒(61)分别设置在所述第一伸缩杆(6)和所述第二伸缩杆(7)的下端内侧；

前置轮(62)，所述前置轮(62)转动连接在所述第一伸缩杆(6)的下端，所述前置轮(62)用于实现对所述铸铁平台(3)上的铁锈进行预处理。

3.根据权利要求2所述的一种球墨铸铁平台表面抛光处理系统，其特征在于：所述收集盒(61)分别设置在所述前置轮(62)和所述抛光轮(71)的上方，所述收集盒(61)与所述控制室(5)的底部可拆卸连接，所述收集盒(61)的入口部位底面分别与对应的前置轮(62)和抛光轮(71)的表面切线平行。

4.根据权利要求3所述的一种球墨铸铁平台表面抛光处理系统，其特征在于：所述收集盒(61)呈半环形，且所述收集盒(61)的弧面内侧入口处固连有多个斜板(611)。

5.根据权利要求4所述的一种球墨铸铁平台表面抛光处理系统，其特征在于：所述斜板(611)与收集盒(61)的内壁之间的夹角呈锐角。

6.根据权利要求4所述的一种球墨铸铁平台表面抛光处理系统，其特征在于：所述前置轮(62)上方的所述收集盒(61)弧形内壁上，且位于所述斜板(611)之间开设有吸尘孔(612)。

7.根据权利要求6所述的一种球墨铸铁平台表面抛光处理系统，其特征在于：所述前置轮(62)上方所述收集盒(61)的另一端底部固连有抽风管(613)，所述抽风管(613)与外部抽风电机连通。

8.根据权利要求7所述的一种球墨铸铁平台表面抛光处理系统，其特征在于：所述吸尘孔(612)和所述抽风管(613)仅设置在所述前置轮(62)上方的所述收集盒(61)中。