1.一种高透过率超疏水增透膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1) 将无水乙醇、去离子水、氨水和正硅酸乙酯依次加入到反应瓶中，恒温反应，密封陈化，得到SiO2溶胶；

(2) 向步骤(1)制得的SiO2溶胶中加入六甲基二硅氮烷，恒温反应，密封陈化，得到疏水改性SiO2溶胶；

(3) 采用浸渍‑提拉法，将步骤(2)制得的疏水改性SiO2溶胶镀制在玻璃基片表面，在室温下晾干，最终得到高透过率超疏水增透膜；

步骤(1)中所述无水乙醇、去离子水、氨水和正硅酸乙酯的摩尔比为(30‑40):(6‑12): (0.15‑0.18):1；

步骤(2)中所述六甲基二硅氮烷与步骤(1)中所述正硅酸乙酯的摩尔比(0.37‑1.11) : 

1。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(1)中所述恒温反应的温度为25‑

30℃，时间为1‑6 h；密封陈化的温度为25‑30℃，时间为7‑10天。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中所述恒温反应的温度为25‑

30℃，时间为1‑6 h；密封陈化的温度为25‑30℃，时间为5‑10天。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(3)中将玻璃基片提拉出溶胶的速度为1000‑6000 μm/s。

5.根据权利要求1‑4任意一项所述的制备方法制备得到的高透过率超疏水增透膜。

6.根据权利要求5所述的高透过率超疏水增透膜，其特征在于：所述高透过率超疏水增透膜的厚度为81‑183 nm，折射率为1.21‑1.25。

7.根据权利要求5所述的高透过率超疏水增透膜，其特征在于：所述高透过率超疏水增透膜的峰值透过率大于99.8%，水接触角大于160°。